定子沖片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種電機(jī)零部件，更具體的說，涉及一種定子沖片。
【背景技術(shù)】
[0002]電機(jī)定子和轉(zhuǎn)子之間的間隙也叫氣隙，它是磁場的通路，在同等磁動勢的情況下，氣隙越大，磁阻越大，磁感線的密度越小，所形成的磁場強(qiáng)度也就越弱?，F(xiàn)有技術(shù)的電機(jī)定子沖片，主要包括沖片本體和沖片本體中心用于安置轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)子孔，沖片本體上與轉(zhuǎn)子孔的圓心相對設(shè)置有多個(gè)定子磁極，每個(gè)定子磁極的內(nèi)側(cè)兩邊設(shè)有定子極靴，每個(gè)定子磁極與極靴面向轉(zhuǎn)子孔的內(nèi)側(cè)面均為圓弧面，且這些圓弧面在以轉(zhuǎn)子軸線為中心軸線的圓柱面上，采用這種定子沖片裝配的電動機(jī)其電機(jī)轉(zhuǎn)子與定子沖片之間的間隙是均勻等間隙，這樣間隙磁場的密度固定不變，但氣隙磁場中含有大量的諧波，使電動勢中諧波含量較大，增加了電機(jī)的諧波電流和附加諧波鐵損，從而影響電機(jī)效率的提高，另外諧波磁場也會產(chǎn)生力矩波動，引起震動和噪音。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠有效降低諧波鐵損的定子沖片。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:一種定子沖片，包括沖片本體和設(shè)置在沖片本體中心的轉(zhuǎn)子孔，所述沖片本體上設(shè)有沿轉(zhuǎn)子孔均勻分布的多個(gè)定子磁極，每個(gè)定子磁極靠近轉(zhuǎn)子孔的一端兩側(cè)均延伸有定子極靴，沖片本體、定子磁極及定子極靴圍合構(gòu)成定子繞線槽，所述繞線槽兩側(cè)壁距離由槽口向槽底逐漸變大，同一規(guī)格的相鄰若干繞線槽構(gòu)成一組繞線組，繞線組關(guān)于轉(zhuǎn)子孔對稱設(shè)置，相鄰繞線組的槽深不同。
[0005]通過采用上述方案，相鄰繞線組不同的槽深使得線箍的匝數(shù)存在差異，氣隙磁場中的諧波隨著轉(zhuǎn)動的相對轉(zhuǎn)動會出現(xiàn)相互抵消的情況，降低了電機(jī)的諧波電流和附加諧波鐵損，從而使得電機(jī)效率更加高，振動和噪音較小。
[0006]優(yōu)選的，所述繞線槽的槽底包括弧形底和平底兩種規(guī)格。
[0007]通過采用上述方案，在單相低功率電機(jī)中，定子繞線分為主繞組和副繞組，考慮電機(jī)的功率、磁通均布性、效率，主副繞組的匝數(shù)、跨距有差異，通常為主繞組匝數(shù)多、跨距大，副繞組匝數(shù)少、跨距小，由于主副繞組匝數(shù)的差異，線圈截面面積不同，如用均槽定子嵌線，便會出現(xiàn)副繞組槽滿率低的情況。平底和弧形底兩者設(shè)計(jì)方式，能夠使得平底的繞線槽為主繞組填充更多匝數(shù)，同時(shí)又能保證相同的槽滿率，避免槽滿率高出現(xiàn)嵌線困難以及槽滿率低導(dǎo)向翼松動以及影響散熱的情況出現(xiàn)。
[0008]優(yōu)選的，所述定子磁極外端面和定子極靴外端面處于同一圓周。
[0009]通過采用上述方案，處于同一圓周使得定子和轉(zhuǎn)子之間的氣隙距離一直是一致的，保證了磁場密度的均勻分布，轉(zhuǎn)動更加穩(wěn)定、平衡。
[0010]優(yōu)選的，定子極靴內(nèi)端面為傾斜面，傾斜面與繞線槽側(cè)壁構(gòu)成鈍角。
[0011]通過采用上述方案，傾斜面的設(shè)計(jì)使得定子與轉(zhuǎn)子之間的磁通量提高，磁密度損耗較少，效率更高。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型的正視圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型圖1中A處的放大圖。
[0014]【附圖說明】:1、沖片本體;2、轉(zhuǎn)子孔；3、定子磁極;4、定子極靴;4a、傾斜面;5、繞線槽;A、A繞線組;B、B繞線組;C、C繞線組。
【具體實(shí)施方式】
[0015]以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0016]—種定子沖片，包括沖片本體I和設(shè)置在沖片本體I中心的轉(zhuǎn)子孔2，所述沖片本體I上設(shè)有沿轉(zhuǎn)子孔2均勻分布的多個(gè)定子磁極3，每個(gè)定子磁極3靠近轉(zhuǎn)子孔2的一端兩側(cè)均延伸有定子極靴4，沖片本體1、定子磁極3及定子極靴4圍合構(gòu)成定子繞線槽5，繞線槽5兩側(cè)壁距離由槽口向槽底逐漸變大，同一規(guī)格的相鄰若干繞線槽5構(gòu)成一組繞線組，繞線組關(guān)于轉(zhuǎn)子孔2對稱設(shè)置，相鄰繞線組的槽深不同。相鄰繞線組不同的槽深使得線箍的匝數(shù)存在差異，氣隙磁場中的諧波隨著轉(zhuǎn)動的相對轉(zhuǎn)動會出現(xiàn)相互抵消的情況，降低了電機(jī)的諧波電流和附加諧波鐵損，從而使得電機(jī)效率更加高，振動和噪音較小。
[0017]如圖1所示，這里的繞線組總共分成三組，分別為A、B、C三組，A、B組繞線槽5槽底為弧形底，C組為平底，A、C組兩側(cè)都設(shè)置B組的方式圓周排列，B組的對稱連線正好構(gòu)成十字形，A組中繞線槽5位4個(gè)，B組中繞線槽5位2個(gè)，C組中繞線槽5位4個(gè)，A、B組中的繞線槽5槽深不同，A組比B組大，C組與A組相同。在單相低功率電機(jī)中，定子繞線分為主繞組和副繞組，考慮電機(jī)的功率、磁通均布性、效率，主副繞組的匝數(shù)、跨距有差異，通常為主繞組匝數(shù)多、跨距大，副繞組匝數(shù)少、跨距小，由于主副繞組匝數(shù)的差異，線圈截面面積不同，如用均槽定子嵌線，便會出現(xiàn)副繞組槽滿率低的情況。平底和弧形底兩者設(shè)計(jì)方式，能夠使得平底的繞線槽5為主繞組填充更多匝數(shù)，同時(shí)又能保證相同的槽滿率，避免槽滿率高出現(xiàn)嵌線困難以及槽滿率低導(dǎo)向翼松動以及影響散熱的情況出現(xiàn)。
[0018]其中，述定子磁極3外端面和定子極靴4外端面處于同一圓周。處于同一圓周使得定子和轉(zhuǎn)子之間的氣隙距離一直是一致的，保證了磁場密度的均勻分布，轉(zhuǎn)動更加穩(wěn)定、平衡。
[0019]如圖2所示，定子極靴4內(nèi)端面為傾斜面4a，傾斜面4a與繞線槽5側(cè)壁構(gòu)成鈍角。傾斜面4a的設(shè)計(jì)使得定子與轉(zhuǎn)子之間的磁通量提高，磁密度損耗較少，效率更高。
[0020]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不僅局限于上述實(shí)施例，凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種定子沖片，包括沖片本體(I)和設(shè)置在沖片本體(I)中心的轉(zhuǎn)子孔(2)，所述沖片本體(I)上設(shè)有沿轉(zhuǎn)子孔(2)均勻分布的多個(gè)定子磁極(3)，每個(gè)定子磁極(3)靠近轉(zhuǎn)子孔(2)的一端兩側(cè)均延伸有定子極靴(4)，沖片本體(1)、定子磁極(3)及定子極靴(4)圍合構(gòu)成定子繞線槽(5)，其特征是:所述繞線槽(5)兩側(cè)壁距離由槽口向槽底逐漸變大，同一規(guī)格的相鄰若干繞線槽(5)構(gòu)成一組繞線組，繞線組關(guān)于轉(zhuǎn)子孔(2)對稱設(shè)置，相鄰繞線組的槽深不同。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定子沖片，其特征是:所述繞線槽(5)的槽底包括弧形底和平底兩種規(guī)格。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定子沖片，其特征是:所述定子磁極(3)外端面和定子極靴(4)外端面處于同一圓周。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定子沖片，其特征是:定子極靴(4)內(nèi)端面為傾斜面(4a)，傾斜面(4a)與繞線槽(5)側(cè)壁構(gòu)成鈍角。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種定子沖片，包括沖片本體和設(shè)置在沖片本體中心的轉(zhuǎn)子孔，所述沖片本體上設(shè)有沿轉(zhuǎn)子孔均勻分布的多個(gè)定子磁極，每個(gè)定子磁極靠近轉(zhuǎn)子孔的一端兩側(cè)均延伸有定子極靴，沖片本體、定子磁極及定子極靴圍合構(gòu)成定子繞線槽，其特征是：所述繞線槽兩側(cè)壁距離由槽口向槽底逐漸變大，同一規(guī)格的相鄰若干繞線槽構(gòu)成一組繞線組，繞線組關(guān)于轉(zhuǎn)子孔對稱設(shè)置，相鄰繞線組的槽深不同。該方案提供了一種能夠有效降低諧波鐵損的定子沖片。
【IPC分類】H02K1/14, H02K3/16, H02K1/16
【公開號】CN205377479
【申請?zhí)枴緾N201620070179
【發(fā)明人】吳俊金
【申請人】浙江實(shí)日機(jī)電科技有限公司
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2016年1月23日