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異質(zhì)結(jié)電池的制作方法

文檔序號:39691923發(fā)布日期:2024-10-22 12:22閱讀:3來源:國知局
異質(zhì)結(jié)電池的制作方法

本技術(shù)屬于太陽能電池,具體涉及一種異質(zhì)結(jié)電池。


背景技術(shù):

1、異質(zhì)結(jié)電池(hjt)是一種利用晶體硅片和非晶硅薄膜制成的混合型太陽能電池,具有制備過程簡單、工藝溫度低、開路電壓高、光電轉(zhuǎn)換效率高、溫度系數(shù)低等諸多優(yōu)點(diǎn),是目前應(yīng)用最廣的高效晶硅太陽能技術(shù)之一。

2、異質(zhì)結(jié)電池受光面的tco層中由于寄生吸收而產(chǎn)生的光學(xué)損耗主要來自于短波吸收和自由載流子吸收,且tco層隨著其導(dǎo)電性的增加而變得不透明,通過增加載流子濃度來提高其導(dǎo)電性都會增加其近紅外光的吸收。此外,受光面的非晶硅層帶隙較小也會產(chǎn)生嚴(yán)重的光學(xué)寄生吸收。傳統(tǒng)量產(chǎn)的異質(zhì)結(jié)電池的受光面和背光面為均為全面積鈍化接觸結(jié)構(gòu),其受光面的本征非晶硅層、摻雜非晶/微晶硅層和tco層存在大量的寄生吸收,短路電流密度(jsc)較低,限制了電池效率的提升。為了充分挖掘異質(zhì)結(jié)電池的光電性能潛力,需盡量減少寄生吸收。

3、因此,針對上述技術(shù)問題,有必要提供一種異質(zhì)結(jié)電池。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種異質(zhì)結(jié)電池,以降低電池受光面對光的寄生吸收,提高電池效率。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的技術(shù)方案如下:

3、一種異質(zhì)結(jié)電池,所述異質(zhì)結(jié)電池包括硅片、第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第一電極及第二電極,所述硅片包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于部分第一表面上的第一本征層、第一摻雜層和第一透明導(dǎo)電層,所述第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于全部第二表面上的第二本征層、第二摻雜層和第二透明導(dǎo)電層,所述第一電極與第一透明導(dǎo)電層電接觸,所述第二電極與第二透明導(dǎo)電層電接觸。

4、一實(shí)施例中,所述第一表面包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,所述第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)層疊于第一表面中第一區(qū)域上。

5、一實(shí)施例中,所述第一電極在第一表面上的投影位于第一區(qū)域內(nèi)部或與第一區(qū)域重疊。

6、一實(shí)施例中,所述第一電極覆蓋于全部或部分第一透明導(dǎo)電層上,所述第二電極覆蓋于部分第二透明導(dǎo)電層上。

7、一實(shí)施例中,所述第一電極為柵線電極,包括多個(gè)沿第一方向分布的主柵線和/或多個(gè)沿第二方向分布的副柵線,所述第一區(qū)域包括多個(gè)沿第一方向分布的第一子區(qū)域和/或多個(gè)沿第二方向分布的第二子區(qū)域,其中,所述第一子區(qū)域的寬度大于或等于主柵線的寬度,所述第二子區(qū)域的寬度大于或等于副柵線的寬度。

8、一實(shí)施例中,所述異質(zhì)結(jié)電池還包括層疊于全部或部分第一表面中第二區(qū)域上的減反層。

9、一實(shí)施例中,所述減反層為sinx減反層;和/或,

10、所述減反層的厚度為70nm~85nm;和/或,

11、所述減反層的折射率為1.9~2.1;和/或,

12、所述減反層的折射率由內(nèi)向外逐漸減小。

13、一實(shí)施例中,所述硅片為n型摻雜或p型摻雜;和/或,

14、所述硅片的第一表面和/或第二表面上形成有陷光結(jié)構(gòu)。

15、一實(shí)施例中,所述第一本征層為本征非晶硅層和/或本征微晶硅層;和/或,

16、所述第一本征層的厚度為5nm~8nm;和/或,

17、所述第一摻雜層為非晶硅層和/或微晶硅層,摻雜類型與硅片的摻雜類型相同;和/或,

18、所述第一摻雜層的厚度為28nm~35nm;和/或,

19、所述第二本征層為本征非晶硅層和/或本征微晶硅層;和/或,

20、所述第二本征層的厚度為5nm~8nm;和/或,

21、所述第二摻雜層為非晶硅層和/或微晶硅層,摻雜類型與硅片的摻雜類型反;和/或,

22、所述第二摻雜層的厚度為30nm~40nm。

23、一實(shí)施例中,所述第一透明導(dǎo)電層的厚度為80nm~100nm;和/或,

24、所述第二透明導(dǎo)電層的厚度為80nm~100nm;和/或,

25、所述第一透明導(dǎo)電層為ito透明導(dǎo)電層、vtto透明導(dǎo)電層、iwo透明導(dǎo)電層中的一種或多種的組合;和/或,

26、所述第二透明導(dǎo)電層為ito透明導(dǎo)電層、vtto透明導(dǎo)電層、iwo透明導(dǎo)電層中的一種或多種的組合。

27、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下有益效果:

28、本實(shí)用新型中的異質(zhì)結(jié)電池受光面為局部鈍化接觸結(jié)構(gòu),降低電池受光面透明導(dǎo)電層、本征層及摻雜層對光的寄生吸收,大幅提高了電池效率。



技術(shù)特征:

1.一種異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述異質(zhì)結(jié)電池包括硅片、第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第一電極及第二電極,所述硅片包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于部分第一表面上的第一本征層、第一摻雜層和第一透明導(dǎo)電層,所述第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于全部第二表面上的第二本征層、第二摻雜層和第二透明導(dǎo)電層,所述第一電極與第一透明導(dǎo)電層電接觸,所述第二電極與第二透明導(dǎo)電層電接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一表面包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,所述第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)層疊于第一表面中第一區(qū)域上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一電極在第一表面上的投影位于第一區(qū)域內(nèi)部或與第一區(qū)域重疊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一電極覆蓋于全部或部分第一透明導(dǎo)電層上,所述第二電極覆蓋于部分第二透明導(dǎo)電層上。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一電極為柵線電極,包括多個(gè)沿第一方向分布的主柵線和/或多個(gè)沿第二方向分布的副柵線,所述第一區(qū)域包括多個(gè)沿第一方向分布的第一子區(qū)域和/或多個(gè)沿第二方向分布的第二子區(qū)域,其中,所述第一子區(qū)域的寬度大于或等于主柵線的寬度,所述第二子區(qū)域的寬度大于或等于副柵線的寬度。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述異質(zhì)結(jié)電池還包括層疊于全部或部分第一表面中第二區(qū)域上的減反層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述減反層為sinx減反層;和/或,

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述硅片為n型摻雜或p型摻雜;和/或,

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一本征層為本征非晶硅層和/或本征微晶硅層;和/或,

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一透明導(dǎo)電層的厚度為80nm~100nm;和/或,


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種異質(zhì)結(jié)電池,所述異質(zhì)結(jié)電池包括硅片、第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)、第一電極及第二電極,所述硅片包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述第一鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于部分第一表面上的第一本征層、第一摻雜層和第一透明導(dǎo)電層,所述第二鈍化接觸結(jié)構(gòu)包括依次層疊于全部第二表面上的第二本征層、第二摻雜層和第二透明導(dǎo)電層,所述第一電極與第一透明導(dǎo)電層電接觸,所述第二電極與第二透明導(dǎo)電層電接觸。本技術(shù)中的異質(zhì)結(jié)電池受光面為局部鈍化接觸結(jié)構(gòu),降低電池受光面透明導(dǎo)電層、本征層及摻雜層對光的寄生吸收,大幅提高了電池效率。

技術(shù)研發(fā)人員:張強(qiáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者:嘉興阿特斯技術(shù)研究院有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240205
技術(shù)公布日:2024/10/21
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