專利名稱：基底校正裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及基底處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基底校正裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器制造、半導體處理等工藝中，需要將基底(如玻璃基板、半導體晶片等)在不同處理設(shè)備間傳送。該傳送通常由機械臂進行，機械臂為多根，可伸入基底下方并支撐基底。由于機械臂取放操作的精度有限，但許多工藝(如光刻等)又對基底的位置要求十分嚴格，因此在用機械臂將基底放入處理設(shè)備后需對其位置進行校正才能進行后續(xù)處理?，F(xiàn)有的基底校正裝置如圖1、圖2所示，包括第一支撐單元、固定支撐單元3、驅(qū)動單元4、校正單元8。其中，固定支撐單元3為板狀，且具有多個用于與基底9接觸的凸起 31 ；第一支撐單元包括多個第一支撐桿11，第一支撐桿11通過固定支撐單元3中的套管32 穿過固定支撐單元3，套管32內(nèi)可有滾輪、滾珠等以保證支撐桿11可在套管32中平穩(wěn)運動，第一支撐桿11頂端具有用于接觸基底9的第一支撐墊(即第一接觸部)111 ；驅(qū)動單元 4包括連接各第一支撐桿11底端的驅(qū)動板41，驅(qū)動板41可在驅(qū)動器(如氣缸、油缸、馬達、 電機等，圖中未示出)作用下升降，從而帶動第一支撐單元升降；校正單元8則包括多個位于第一支撐單元周邊的卡子81，卡子81可在校正驅(qū)動器(如氣缸、油缸、馬達、電機等，圖中未示出)的驅(qū)動下側(cè)向移動，從而在基底9位于第一支撐單元上時從側(cè)面推動基底9以校正其位置。使用時，如圖1所示，機械臂先將基底9放在第一支撐桿11上，卡子81推動基底 9以校正其位置；之后第一支撐桿11在驅(qū)動單元4的驅(qū)動下逐漸下降，使基底9如圖2所示落在固定支撐單元3的凸起31上，并開始對基底9進行處理；處理完成后，各第一支撐桿 11再次升高而將基底9頂起，以便機械臂將其取走。其中，之所以在取、放基底9時用第一支撐單元支撐基底9，是因為固定支撐單元3上的凸起31很密集(以保證在處理過程中能穩(wěn)定支撐基底9)，因此當基底9位于固定支撐單元3上時，機械臂無法伸入其下方，故只有當?shù)谝恢螁卧牡谝恢螚U11將基底9頂起后機械臂才能對其進行取放。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題校正單元8要校正基底9就必須克服第一支撐墊111與基底9間的最大靜摩擦力(因基底9移動時的動摩擦力必定小于最大靜摩擦力，故此處只考慮最大靜摩擦力)；因此，如果第一支撐墊111與基底9間的靜摩擦系數(shù)(即最大靜摩擦力與壓力的比值)較大，則卡子81難以推動基底9，甚至可能造成基底9 損傷(對于液晶顯示器用的大尺寸、薄厚度的玻璃基板尤其如此)，而如果第一支撐墊111 與基底9間的靜摩擦系數(shù)較小，則在第一支撐單元升降、機械臂取放等過程中，基底9又容易因外界因素的干擾而滑動，導致基底9位置不正確?？傊F(xiàn)有的基底校正裝置無法在保證校正操作容易進行的情況下避免基底滑動
實用新型內(nèi)容
[0006]本實用新型的實施例提供一種基底校正裝置，其既可保證校正操作容易進行，又可避免基底滑動。為達到上述目的，本實用新型的實施例采用如下技術(shù)方案一種基底校正裝置，包括第一支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第一接觸部，所述第一接觸部與基底間具有第一靜摩擦系數(shù)；第二支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第二接觸部，所述第二接觸部與基底間具有小于所述第一靜摩擦系數(shù)的第二靜摩擦系數(shù)；用于驅(qū)動所述第一支撐單元進行升降，或驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降的驅(qū)動單元；用于調(diào)整支撐在所述第二支撐單元上的基底的位置的校正單元。由于本實用新型的實施例的基底校正裝置中具有靜摩擦系數(shù)較大的第一支撐單元和靜摩擦系數(shù)較小的第二支撐單元，且其中至少第一支撐單元可以升降，故在校正時可用第二支撐單元支撐基底以使校正容易進行，而在取放或升降基底時則可用第一支撐單元 (或第一支撐單元和第二支撐單元)支撐基底以避免其滑動；因此本實施例的基底校正裝置既可保證校正操作容易進行，又可避免基底滑動。其中，“靜摩擦系數(shù)”是指接觸部和基底的接觸面之間的最大靜摩擦力與垂直于接觸面的壓力的比值。當一個支撐單元中具有多個接觸部時，靜摩擦系數(shù)是指基底同時與各接觸部接觸時的總的最大靜摩擦力與總壓力的比值。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一支撐單元包括多根用于支撐基底的第一支撐桿；所述第二支撐單元包括多根用于支撐基底的第二支撐桿。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述基底校正裝置還包括固定支撐單元；所述驅(qū)動單元用于驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一支撐單元包括多根用于支撐基底的第一支撐桿；所述第二支撐單元包括多根用于支撐基底的第二支撐桿；所述固定支撐單元為板狀，且其中具有用于供所述第一支撐桿和第二支撐桿穿過的套管。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一支撐桿和第二支撐桿的下端鏈接滾珠或滾輪；所述驅(qū)動單元包括驅(qū)動板和用于沿水平方向驅(qū)動所述驅(qū)動板的驅(qū)動器； 而驅(qū)動板具有用于支撐所述第一支撐桿、并在驅(qū)動板沿水平方向運動時帶動所述第一支撐桿進行升降的第一支撐面；用于支撐所述第二支撐桿、并在驅(qū)動板沿水平方向運動時帶動所述第二支撐桿進行升降的第二支撐面。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一支撐面和第二支撐面相互平行，且所述第一支撐面上具有一凹陷部。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述固定支撐單元上具有多個用于接觸基底的凸起。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述校正單元包括用于推壓所述基底側(cè)面以使基底運動的卡子；用于驅(qū)動所述卡子運動的校正驅(qū)動器。作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一接觸部為第一支撐墊；所述第二接觸部為滾輪或滾珠。[0023]作為本實用新型的實施例的一種優(yōu)選方案，所述第一接觸部為第一支撐墊；所述第二接觸部為第二支撐墊。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。圖1為現(xiàn)有的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型實施例的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實用新型實施例的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實用新型實施例的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實用新型實施例的基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；其中附圖標記為11、第一支撐桿；111、第一支撐墊；112、滾輪；21、第二支撐桿； 211、滾珠；212、滾輪；3、固定支撐單元；31、凸起；32、套管；4、驅(qū)動單元；41、驅(qū)動板；8、校正單元；81、卡子；9、基底。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。本實用新型實施例提供一種基底校正裝置，包括第一支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第一接觸部，所述第一接觸部與基底間具有第一靜摩擦系數(shù)；第二支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第二接觸部，所述第二接觸部與基底間具有小于所述第一靜摩擦系數(shù)的第二靜摩擦系數(shù)；用于驅(qū)動所述第一支撐單元進行升降，或驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降的驅(qū)動單元；用于調(diào)整支撐在所述第二支撐單元上的基底的位置的校正單元。由于本實用新型的實施例的基底校正裝置中具有靜摩擦系數(shù)較大的第一支撐單元和靜摩擦系數(shù)較小的第二支撐單元，且其中至少第一支撐單元可以升降，故在校正時可用第二支撐單元支撐基底以使校正容易進行，而在取放或升降基底時則可用第一支撐單元 (或第一支撐單元和第二支撐單元)支撐基底以避免其滑動；因此本實施例的基底校正裝置既可保證校正操作容易進行，又可避免基底滑動。實施例本實用新型實施例提供一種基底校正裝置，如圖3至圖6所示，其包括第一支撐單元、第二支撐單元、驅(qū)動單元4、校正單元8。[0041]第一支撐單元用于支撐基底9，其頂部具有用于與基底9接觸的第一接觸部，第一接觸部與基底間具有第一靜摩擦系數(shù)；第二支撐單元用于支撐基底9，其頂部具有用于與基底9接觸的第二接觸部，第二接觸部與基底間具有第二靜摩擦系數(shù)，該第二靜摩擦系數(shù)小于第一靜摩擦系數(shù)。由于第二靜摩擦系數(shù)小于第一靜摩擦系數(shù)，故當基底9被支撐在第二支撐單元上時，其最大靜摩擦力比基底9被支撐在第一支撐單元上時的最大靜摩擦力小，或者說基底9 位于第二支撐單元上時比位于第一支撐單元上時“更容易”被從側(cè)向推動(因為壓力通常都等于基底9的重力)。因此，本實施例的基底校正裝置中，可在基底9被支撐在第二支撐單元上時校正其位置，而在取放或升降基底9時用第一支撐單元(或第一支撐單元和第二支撐單元)共同支撐基底9，從而既保證校正操作容易進行，又避免基底9滑動。優(yōu)選地，第一支撐單元包括多根用于支撐基底9的第一支撐桿11，各第一支撐桿 11的頂端即為第一接觸部(為保證各第一支撐桿11頂端可同時接觸基底，它們優(yōu)選位于同一平面中，更優(yōu)選位于同一水平面中)；第二支撐單元則包括多根用于支撐基底9的第二支撐桿21，各第二支撐桿21的頂端即為第二接觸部(為保證各第二支撐桿21頂端可同時接觸基底，它們優(yōu)選位于同一平面中，更優(yōu)選位于同一水平面中)。顯然，為了保證支撐的穩(wěn)定，每個支撐單元中優(yōu)選應(yīng)包括多個均勻分布在不同位置處的支撐桿，圖3至圖6中只示出了一個第一支撐桿11和一個第二支撐桿21是因為這些附圖只顯示了基底校正裝置的局部結(jié)構(gòu)。這種支撐桿形式的支撐單元結(jié)構(gòu)簡單，節(jié)省材料，易于保證支撐均勻，并能使機械臂的取放操作容易進行。當然，支撐單元也可為其它的形式，例如為支撐柱、支撐臺等，只要其能支撐基底9 并保證第二靜摩擦系數(shù)大于第一靜摩擦系數(shù)即可。顯然，在其它形式的支撐單元中，一個支撐單元中也可包括多個支撐柱、支撐臺等。顯然，通過采用不同形式的第一接觸部和第二接觸部，即可實現(xiàn)上述靜摩擦系數(shù)的關(guān)系。例如，優(yōu)選地，第一接觸部可為第一支撐墊111(例如為位于各第一支撐桿11上端的第一支撐墊111)，而第二接觸部則為滾珠211或滾輪(如為位于各第二支撐桿21上端的滾珠211或滾輪)；這樣，基底9與第二接觸部間為滾動摩擦，而與第一接觸部間為滑動摩擦，由于滾動摩擦系數(shù)通常遠小于滑動摩擦系數(shù)，因此這種接觸部可容易地保證第二靜摩擦系數(shù)小于第一靜摩擦系數(shù)。再如，優(yōu)選地，第一接觸部可為第一支撐墊111，而第二接觸部可為第二支撐墊； 通過將兩種支撐墊設(shè)置為不同的形式即可實現(xiàn)上述的靜摩擦系數(shù)關(guān)系，如兩種支撐墊表面的粗糙度不同(如第一支撐墊111表面為波紋面，而第二支撐墊表面為拋光面)，或者兩種支撐墊的材質(zhì)不同(如第一支撐墊為橡膠，而第二支撐墊為光滑金屬)，或在第二支撐墊表面增設(shè)潤滑膜等。這種支撐墊形式的接觸部結(jié)構(gòu)簡單，易于保證支撐的平穩(wěn)。顯然，由于上述靜摩擦系數(shù)的關(guān)系可通過多種已知的方法實現(xiàn)，故在此不再對其逐一詳細描述。校正單元8則用于校正被支撐在第二支撐單元上的基底9的位置。優(yōu)選地，校正單元8包括用于推壓基底9側(cè)面以使其移動的卡子81，該卡子81可在校正驅(qū)動器(如氣缸、油缸、馬達、電機等，圖中未示出)的作用下移動，從而校正基底9的位置。優(yōu)選地，基底校正裝置中還包括固定支撐單元3 ；該固定支撐單元3用于在處理過程(如沉積、光刻)中支撐基底9，從而保證處理過程中基底9的穩(wěn)定。當然，基底校正裝置中也可沒有固定支撐單元3，而是用第一支撐單元在處理過程中支撐基底9。優(yōu)選地，該固定支撐單元3為板狀，且其中具有多個用于供第一支撐桿11和第二支撐桿21穿管的套管32，套管32內(nèi)壁還可設(shè)有滾珠等，從而保證第一支撐桿11和第二支撐桿21可順利地在套管32中滑動。更優(yōu)選地，固定支撐單元3上有多個用于支撐基底9 的凸起31，這種形式的固定支撐單元3結(jié)構(gòu)簡單，并能為基底9提供穩(wěn)定的支撐。優(yōu)選地，驅(qū)動單元4用于驅(qū)動第一支撐單元和第二支撐單元進行升降，從而在不同時刻用不同的支撐單元支撐基底。優(yōu)選地，第一支撐桿11和第二支撐桿21下端連接有滾珠或滾輪112、212 ；驅(qū)動單元4則包括驅(qū)動板41和用于驅(qū)動該驅(qū)動板41沿水平方向運動的驅(qū)動器(如氣缸、油缸、馬達、電機等，圖中未示出)。其中，驅(qū)動板41包括用于支撐第一支撐桿11、并在驅(qū)動板41 沿水平方向運動時帶動第一支撐桿11進行升降的第一支撐面411 ；以及用于支撐第二支撐桿21、并在驅(qū)動板41沿水平方向運動時帶動第二支撐桿21進行升降的第二支撐面421。顯然，由于第一支撐桿11和第二支撐桿21被套在固定支撐單元3的套管32中， 且它們下端有滾珠或滾輪112、212，故當驅(qū)動板41沿水平方向運動時第一支撐桿11和第二支撐桿21不會側(cè)向移動，而是在相應(yīng)的支撐面411、412上滑動。因此，只要第一支撐面411 和第二支撐面412沿驅(qū)動板41的運動方向上高度有變化，那么當驅(qū)動板41沿水平方向運動時，兩支撐桿11、21下端也會隨著支撐面411、412高度的變化而上下運動，從而帶動支撐桿11、21升降。這樣，通過設(shè)置不同形狀的第一支撐面411和第二支撐面412，即可控制第一支撐桿11和第二支撐桿21按照不同的預(yù)訂方式運動。這種形式的驅(qū)動單元4中只使用一個驅(qū)動器即可驅(qū)動第一支撐單元和第二支撐單元按照不同的方式運動，結(jié)構(gòu)簡單，成本低。具體地，第一支撐面411和第二支撐面412可相互平行，且第一支撐面411上具有一凹陷部4111。在放入基底9的操作中，驅(qū)動板41可一直向右運動；如圖3所示，當機械臂將基底9放入時，第一支撐桿11和第二支撐桿21共同支撐基底9，從而保證支撐的穩(wěn)定， 而隨著驅(qū)動板41的運動，第一支撐桿11和第二支撐桿21 —起帶著基底9降低；如圖4所示，當?shù)谝恢螚U11運動到凹陷部4111中時其高度迅速降低，基底9被第二支撐桿21單獨支撐，由于基底9與第二接觸部(滾珠211)間的最大靜摩擦系數(shù)較低，故此時可用卡子 81容易地推動基底9以校正其位置；如圖5所示，校正完成時，第一支撐桿11下端正好從凹陷部4111中運動出來，從而第一支撐桿11和第二支撐桿21再次共同支撐基底9 ；最后， 如圖6所示，第一支撐桿11和第二支撐桿21繼續(xù)一同降低，從而使基底9落在固定支撐部 3的凸起31上而開始進行處理過程。處理完成后，驅(qū)動板41可向左運動，從而以與上述過程相反的方式將基底9頂起。這種方式的驅(qū)動板41結(jié)構(gòu)簡單，易于制造，可容易地實現(xiàn)兩支撐單元間的準確配合。顯然，第一支撐單元和第二支撐單元的運行方式也可有所不同，例如可為基底9 放入時先由第一支撐單元單獨支撐；之后第一支撐單元降低而第二支撐單元保持不動(可通過在第二支撐面412上設(shè)置水平段實現(xiàn))，當基底9落在第二支撐單元上時進行校正； 校正完成后第一支撐單元升高而再次獨立支撐基底9 ；最后第一支撐單元和第二支撐單元一同降低而使基底9落在固定支撐單元3上。由于本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)基本的幾何學知識即可設(shè)計出使第一支撐單元和第二支撐單元按照預(yù)訂規(guī)律運動的第一支撐面411和第二支撐面412，故在此不再對第一支撐面411和第二支撐面412的具體形式進行詳細描述。當然，該驅(qū)動單元4也可為其它形式，例如，其可包括兩個驅(qū)動板，每個驅(qū)動板連接一個支撐單元，而兩驅(qū)動板可分別在兩個驅(qū)動器(如氣缸、油缸、馬達、電機)的作用下獨立運動。由于驅(qū)動單元4可采用多種已知形式，故在此不再對其進行詳細描述。當然，驅(qū)動單元9也可只驅(qū)動第一支撐單元進行升降。例如，在不使用固定支撐單元3時，機械臂可先將基底9放在最大靜摩擦系數(shù)較大的第一支撐單元上，之后第一支撐單元下降，從而使基底9落在最大靜摩擦系數(shù)較小的第二支撐單元上，校正單元8即可校正基底9位置，之后第一支撐單元上升，再次支撐其基底9，以進行處理過程。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
權(quán)利要求1.一種基底校正裝置，其特征在于，包括第一支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第一接觸部，所述第一接觸部與基底間具有第一靜摩擦系數(shù)；第二支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第二接觸部，所述第二接觸部與基底間具有小于所述第一靜摩擦系數(shù)的第二靜摩擦系數(shù)；用于驅(qū)動所述第一支撐單元進行升降，或驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降的驅(qū)動單元；用于調(diào)整支撐在所述第二支撐單元上的基底的位置的校正單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述第一支撐單元包括多根用于支撐基底的第一支撐桿； 所述第二支撐單元包括多根用于支撐基底的第二支撐桿。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述基底校正裝置還包括固定支撐單元；所述驅(qū)動單元用于驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述第一支撐單元包括多根用于支撐基底的第一支撐桿； 所述第二支撐單元包括多根用于支撐基底的第二支撐桿；所述固定支撐單元為板狀，且其中具有用于供所述第一支撐桿和第二支撐桿穿過的套管。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基底校正裝置，其特征在于，所述第一支撐桿和第二支撐桿的下端鏈接滾珠或滾輪；所述驅(qū)動單元包括驅(qū)動板和用于沿水平方向驅(qū)動所述驅(qū)動板的驅(qū)動器；而驅(qū)動板具有用于支撐所述第一支撐桿、并在驅(qū)動板沿水平方向運動時帶動所述第一支撐桿進行升降的第一支撐面；用于支撐所述第二支撐桿、并在驅(qū)動板沿水平方向運動時帶動所述第二支撐桿進行升降的第二支撐面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基底校正裝置，其特征在于，所述第一支撐面和第二支撐面相互平行，且所述第一支撐面上具有一凹陷部。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述固定支撐單元上具有多個用于接觸基底的凸起。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的基底校正裝置，其特征在于，所述校正單元包括 用于推壓所述基底側(cè)面以使基底運動的卡子；用于驅(qū)動所述卡子運動的校正驅(qū)動器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述第一接觸部為第一支撐墊；所述第二接觸部為滾輪或滾珠。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的基底校正裝置，其特征在于， 所述第一接觸部為第一支撐墊；所述第二接觸部為第二支撐墊。
專利摘要本實用新型提供一種基底校正裝置，屬于基底處理技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的基底校正裝置不能既保證校正操作容易進行又避免基底滑動的問題。本實用新型的基底校正裝置包括第一支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第一接觸部，所述第一接觸部與基底間具有第一靜摩擦系數(shù)；第二支撐單元，頂端具有用于接觸基底的第二接觸部，所述第二接觸部與基底間具有小于所述第一靜摩擦系數(shù)的第二靜摩擦系數(shù)；用于驅(qū)動所述第一支撐單元進行升降，或驅(qū)動所述第一支撐單元和第二支撐單元進行升降的驅(qū)動單元；用于調(diào)整支撐在所述第二支撐單元上的基底的位置的校正單元。本實用新型可用于校正液晶顯示器的玻璃基板等。
文檔編號H01L21/683GK202111071SQ201120086248
公開日2012年1月11日 申請日期2011年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月29日
發(fā)明者劉還平, 周賀, 常有軍, 潘夢霄 申請人:北京京東方光電科技有限公司