薄電解液層下光照腐蝕裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種薄電解液層下光照腐蝕裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]材料與其周圍的大氣環(huán)境相互作用而引起材料的破壞叫大氣腐蝕。據(jù)統(tǒng)計(jì)，大氣腐蝕所造成的損失占全部腐蝕的一半。薄電解液層下的金屬腐蝕是大氣腐蝕的重要形式之一，而大氣中的光照因素會(huì)對(duì)材料的大氣腐蝕產(chǎn)生重要的作用。水膜厚度不但影響大氣腐蝕速度，而且影響大氣腐蝕的機(jī)理。對(duì)薄電解液層下腐蝕而言，日照時(shí)間可以影響其薄電解液層的厚度:日照時(shí)間過長(zhǎng)，表面水膜會(huì)消失，腐蝕總量減少；對(duì)于短期腐蝕，影響則不明顯。同時(shí)，材料表面水膜的干濕循環(huán)過程也受到光照的影響:有光照射時(shí)，干濕交替明顯，腐蝕產(chǎn)物容易產(chǎn)生縫隙，促使表面電解液滲透至內(nèi)層，誘發(fā)進(jìn)一步腐蝕。
[0003]CN201210330709.9公開了一種多因素綜合氣候環(huán)境模擬加速試驗(yàn)裝置，所述裝置包括內(nèi)部具有樣品架的試驗(yàn)箱體、光源系統(tǒng)、智能噴霧系統(tǒng)、溫濕度調(diào)節(jié)系統(tǒng)、循環(huán)風(fēng)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。本發(fā)明能夠同時(shí)模擬或強(qiáng)化光照、腐蝕性介質(zhì)、溫度、濕度和風(fēng)速五種環(huán)境因素的環(huán)境效應(yīng)，采用PLC或單片機(jī)控制光源的輻射功率變化、噴霧(或噴淋)、加熱(或冷卻)、風(fēng)速等動(dòng)作，從而模擬和強(qiáng)化多種典型氣候環(huán)境。
[0004]酸試驗(yàn)法、濕熱試驗(yàn)法、鹽霧試驗(yàn)、沉降鹽粒等實(shí)驗(yàn)方法是常見的大氣腐蝕模擬實(shí)驗(yàn)方法。雖然這些模擬方法能夠?yàn)檠芯空鎸?shí)大氣腐蝕機(jī)理提供很多方便，然而，都沒有考慮到大氣環(huán)境中的紫外光線對(duì)大氣腐蝕的影響作用。近年來，雖也有考慮到紫外光線和相對(duì)濕度的聯(lián)合作用，然而大多數(shù)集中在掛片光照腐蝕和干濕循環(huán)條件下的光照腐蝕。缺少研究薄電解液層下的光照腐蝕試驗(yàn)，因此具有一定的局限性。
[0005]本實(shí)用新型有針對(duì)性的解決了該問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有技術(shù)中尚無薄電解液層下的光照腐蝕試驗(yàn)裝置的問題，提供一種新的薄電解液層下光照腐蝕裝置。該裝置具有能更原位地監(jiān)測(cè)光照環(huán)境下材料的腐蝕速度變化過程、制作簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)易的優(yōu)點(diǎn)。
[0007]為解決上述問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種薄電解液層下光照腐蝕裝置，包括帶引出線(5)的工作電極(11)、對(duì)電極線圈(16)和參比電極(8)，參比電極(8)插在鹽橋(17)中、對(duì)電極線圈(16)放置在工作電極(11)周圍的本體溶液⑷中，鹽橋(17)尖端靠近玻璃管(13)，涂有絕緣漆的細(xì)金屬絲(14)與工作電極(11)放入玻璃管(13)中，玻璃管(13)中灌入環(huán)氧(15)，所述細(xì)金屬絲(14)橫截面和工作電極(11)橫截面在同一個(gè)水平面上；工作電極(11)通過密封圈(12)固定在試驗(yàn)箱(3)中間位置，試驗(yàn)箱(3)放置在水平操作臺(tái)(2)上，水平操作臺(tái)(2)放置于防震操作臺(tái)(I)上，工作電極(11)的上表面處于水平，細(xì)金屬絲(14)連接外接電源一極，外接電源的另一極連接電流表，電流表連接本體溶液上方的探針(9);試驗(yàn)箱(3)在工作電極(11)正上方開一個(gè)小孔，石英玻璃(10)蓋住小孔，光源(7)位于小孔上方。
[0008]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，探針與螺旋測(cè)微器相連。
[0009]本實(shí)用新型提供薄電解液層下光照腐蝕模擬試驗(yàn)裝置，能夠減小工作電極和對(duì)電極之間的歐姆降對(duì)測(cè)量信號(hào)的干擾，并能原位地監(jiān)測(cè)大氣環(huán)境中光照腐蝕速率，真實(shí)地反應(yīng)光照對(duì)腐蝕的影響過程，從而了解光照條件下對(duì)大氣環(huán)境中的金屬腐蝕規(guī)律，從而為材料的腐蝕防護(hù)提供理論支撐，取得了較好的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型所述裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖1中，I一防震操作臺(tái)、2—水平操作臺(tái)、3—試驗(yàn)箱、4一本體溶液、5—引出線、6—遮光板、7—光源、8—參比電極、9一探針、10—石英玻璃、11 一工作電極、12—密封圈、13—玻璃管、14 一細(xì)金屬絲、15—環(huán)氧、16—對(duì)電極線圈、17—鹽橋。
[0012]下面通過實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的闡述，但不僅限于本實(shí)施例。
【具體實(shí)施方式】
[0013]【實(shí)施例1】
[0014]—種薄電解液下光照腐蝕模擬試驗(yàn)裝置，如圖1所示，采用三電極體系，每個(gè)電極是由帶引出線的工作電極11，對(duì)電極線圈16和參比電極8。參比電極8插在鹽橋17中、對(duì)電極線圈16是放置在工作電極11周圍的本體溶液4中，鹽橋17尖端應(yīng)靠近玻璃管13附近。
[0015]在細(xì)金屬絲14上先涂上絕緣漆，再與工作電極11 一起放入玻璃管13中，并在玻璃管中灌入環(huán)氧15，待環(huán)氧15固化后，對(duì)其截面進(jìn)行打磨，使得細(xì)金屬絲14截面和工作電極11截面在同一個(gè)水平面上。
[0016]工作電極11通過密封圈12固定在試驗(yàn)箱3中間的位置，試驗(yàn)箱3的二邊水槽的面積應(yīng)遠(yuǎn)大于工作電極11的面積。
[0017]通過水平操作臺(tái)2調(diào)節(jié)工作電極11，使得工作電極11的表面處于水平。
[0018]試驗(yàn)箱3在工作電極11正上方開一個(gè)小孔，石英玻璃10蓋住小孔，光源7的光線通過小孔照射到工作電極11的表面。
[0019]細(xì)金屬絲14連接外接電源一極，外接電源的另一極連接高精度零電阻電流表，電流表連接溶液上方的鉑金屬探針9，通過螺旋測(cè)微器調(diào)節(jié)探針9上下高度，當(dāng)探針9接觸到細(xì)金屬絲14截面時(shí)，電流回路被導(dǎo)通，電流表有讀書，此時(shí)記錄下螺旋測(cè)微器的刻度；通過注射器向試驗(yàn)箱3添加本體溶液4，溶液漫過電極表面時(shí)，再通過螺旋測(cè)微器調(diào)節(jié)鉑金屬探針9高度，當(dāng)探針9在此接觸到溶液表面時(shí)，電流回路再次被導(dǎo)通，電流表有讀數(shù)，記錄下螺旋測(cè)微器讀數(shù)，二次螺旋測(cè)微器讀數(shù)的差值，就為工作電極11表面的電解液厚度。
[0020]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型得到薄電解液層下光照腐蝕模擬試驗(yàn)裝置，能夠減小工作電極和對(duì)電極之間的歐姆降對(duì)測(cè)量信號(hào)的干擾，并能原位地監(jiān)測(cè)大氣環(huán)境中光照腐蝕速率，真實(shí)地反應(yīng)光照對(duì)腐蝕的影響過程，從而了解光照條件下對(duì)大氣環(huán)境中的金屬腐蝕規(guī)律，從而為材料的腐蝕防護(hù)提供理論支撐。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種薄電解液層下光照腐蝕裝置，其特征在于包括帶引出線(5)的工作電極(11)、對(duì)電極線圈(16)和參比電極(8)，參比電極⑶插在鹽橋(17)中、對(duì)電極線圈(16)放置在工作電極(11)周圍的本體溶液(4)中，鹽橋(17)尖端靠近玻璃管(13)，涂有絕緣漆的細(xì)金屬絲(14)與工作電極(11)放入玻璃管(13)中，玻璃管(13)中灌入環(huán)氧(15)，所述細(xì)金屬絲(14)橫截面和工作電極(11)橫截面在同一個(gè)水平面上；工作電極(11)通過密封圈(12)固定在試驗(yàn)箱(3)中間位置，試驗(yàn)箱(3)放置在水平操作臺(tái)(2)上，水平操作臺(tái)(2)放置于防震操作臺(tái)(I)上，工作電極(11)的上表面處于水平，細(xì)金屬絲(14)連接外接電源一極，外接電源的另一極連接電流表，電流表連接本體溶液上方的探針(9);試驗(yàn)箱(3)在工作電極(11)正上方開一個(gè)小孔，石英玻璃(10)蓋住小孔，光源(7)位于小孔上方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述薄電解液層下光照腐蝕裝置，其特征在于所述探針與螺旋測(cè)微器相連。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種薄電解液層下光照腐蝕裝置，主要解決現(xiàn)有技術(shù)中尚無薄電解液層下的光照腐蝕試驗(yàn)裝置的問題。本實(shí)用新型通過采用一種薄電解液層下光照腐蝕裝置，包括帶引出線(5)的工作電極(10)、對(duì)電極線圈(15)和參比電極(8)，參比電極(8)插在鹽橋(16)中、對(duì)電極線圈(15)放置在工作電極(10)周圍的本體溶液(4)中，鹽橋(16)尖端靠近玻璃管(12)，涂有絕緣漆的細(xì)金屬絲(13)與工作電極(10)放入玻璃管(12)中，試驗(yàn)箱(3)放置在水平操作臺(tái)(2)上，水平操作臺(tái)(2)放置于防震操作臺(tái)(1)上的技術(shù)方案較好地解決了上述問題，可用于薄電解液層下的光照腐蝕試驗(yàn)中。
【IPC分類】G01N17/02, G01N17/00
【公開號(hào)】CN204882333
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520609123
【發(fā)明人】程慶利, 張衛(wèi)華, 陶彬, 郎需慶, 張玉平
【申請(qǐng)人】中國(guó)石油化工股份有限公司, 中國(guó)石油化工股份有限公司青島安全工程研究院
【公開日】2015年12月16日
【申請(qǐng)日】2015年8月13日