專利名稱：異地連續(xù)定標rcs測量中改進背景相減技術的信號處理方法
技術領域：
本發(fā)明涉及雷達散射截面(RCS)測量以及雷達信號處理的技術領域，特別涉及一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法。
背景技術：
在雷達散射截面(RCS)外場測量中，通常采用異地連續(xù)定標測量技術，此時定標體和目標位于不同的雷達距離上，且一般采用低散射金屬支架作為支撐定標體和被測目標的支架，其幾何關系示意圖如圖I所示。由

圖1，定標體和待測目標的接收回波功率均滿足雷達方程(參見許小劍、黃培康，《雷達系統(tǒng)及其信息處理》，電子工業(yè)出版社，2010):
權利要求
1.一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法，其特征在于該方法的步驟如下 步驟-I 時刻，測量包含定標支架的測試場背景回波Src(f，ti)； 步驟-2 t2時刻，安裝定標體，并測量定標體回波Sjf，t2)； 步驟-3 t3時刻，測量包含目標支架的測試場背景回波Sbt (f，t3)； 步驟-4 t4時刻，安裝目標，并測量目標回波St (f, t4)； 步驟-5 :利用定標體測量數(shù)據(jù)提取時變傳遞函數(shù)的3個幅度相位補償參數(shù)、進行測量數(shù)據(jù)的幅度與相位校正、背景相量相減和目標RCS定標處理，具體處理方式如下 首先定義寬帶復散射函數(shù)為
2.根據(jù)權利要求I所述的一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法，其特征在于為了作進一步分析，假定 Hr(ZJ) = AT(f,i)e-jMfJ)(20) Hc(fJ) = Ar(fJ)e-jMfJ}(21) 精確的RCS測量和定標要求
3.根據(jù)權利要求2所述的一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法，其特征在于若測試場和定標與目標支架均經(jīng)過仔細設計和優(yōu)化，一般測試過程中定標區(qū)和目標區(qū)的背景是不隨時間變化的，即有Bc(f，t2)=Bc(f, t^Bjf)，Bt (f, t4) =Bt (f，t3) =Bt (f)，則此時式(18 )和(19 )變?yōu)?br> 4.根據(jù)權利要求3所述的一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法，其特征在于利用定標體在不同時間點的測量數(shù)據(jù)作為輔助測量，通過建立不同時間點定標體測量數(shù)據(jù)的自回歸(AR)模型，并采用優(yōu)化算法求得時變傳遞函數(shù)幅度與相位補償?shù)?個參數(shù)，進而完成幅度相位校正，使得校正處理后的測量數(shù)據(jù)滿足式(28) (30)所構 成的對精確RCS測量、背景抵消和定標處理的基本要求，從而達到精確背景抵消和精確RCS定標的目的。
全文摘要
本發(fā)明提供一種異地連續(xù)定標RCS測量中改進背景相減技術的信號處理方法，該方法的步驟如下步驟1t1時刻，測量包含定標支架的測試場背景回波SBC(f,t1)；步驟2t2時刻，安裝定標體，并測量定標體回波SC(f,t2)；步驟3t3時刻，測量包含目標支架的測試場背景回波SBT(f,t3)；步驟4t4時刻，安裝目標，并測量目標回波ST(f,t4)；步驟5提取時變傳遞函數(shù)參數(shù)、幅度相位校正、背景相量相減和目標RCS定標處理。有別于傳統(tǒng)RCS測量與定標處理模型，本發(fā)明提出的新模型為RCS測量與定標處理提供了新的理論依據(jù)，具有以下優(yōu)點引入目標寬帶復散射函數(shù)的概念，用于指導確定測試與處理的流程、形成背景雜波提取和精確背景相減處理方法和算法，也用于分析影響外場測量不確定度的主要因素，具有普適性。
文檔編號G01S7/41GK102967855SQ20121053581
公開日2013年3月13日 申請日期2012年12月12日 優(yōu)先權日2012年12月12日
發(fā)明者許小劍 申請人:北京航空航天大學