晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種中水回收系統(tǒng)，具體來講涉及一種晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]晶硅片切割刃料是粒度細(xì)小的碳化硅固體微粉顆粒，用來將太陽能電池片切割成片。晶硅片切割刃料在生產(chǎn)過程中需要使用大量的水來對(duì)碳化硅微粉進(jìn)行處理，產(chǎn)生的廢水經(jīng)過處理達(dá)標(biāo)后排放掉。
[0003]在水處理的步驟中，大量水資源的使用、排放，造成水資源的嚴(yán)重消耗，而我國是水資源嚴(yán)重匱乏的國家，如果對(duì)達(dá)標(biāo)排放的廢水進(jìn)行處理，使去除水體中有害物質(zhì)后的中水回用于生產(chǎn)，則能夠有效的降低工業(yè)生產(chǎn)對(duì)水資源的消耗，緩解水資源緊缺的矛盾，達(dá)到節(jié)能減排以及資源綜合利用的目的。
[0004]而在現(xiàn)有技術(shù)中，在中水處理過程中存在水體中的有害物質(zhì)處理不徹底、水體中COD殘留量和電導(dǎo)率較高，難以滿足晶硅片切割刃料生產(chǎn)的使用要求的問題。
[0005]此外，現(xiàn)階段的處理技術(shù)，在中水處理的過程中需要利用臭氧對(duì)水體進(jìn)行殺菌處理，殺死水內(nèi)細(xì)菌及微生物，從而凈化水體。但臭氧殺菌過程存在溢出水體的臭氧尾氣難以處理的問題，并且由于臭氧氣體具有強(qiáng)氧化性，刺激人的呼吸系統(tǒng)，對(duì)人體健康產(chǎn)生危害，并造成設(shè)備損壞，同時(shí)還會(huì)污染環(huán)境。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中水處理過程中臭氧尾氣難以處理對(duì)人體、設(shè)備以及大氣造成危害的問題，以及中水處理不徹底、水體中COD殘留較高、電導(dǎo)率較高難以滿足回用生產(chǎn)使用要求的問題，本實(shí)用新型提供一種中水回用系統(tǒng)，以克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目標(biāo)，本實(shí)用新型的內(nèi)容在于:
[0008]一種中水回用系統(tǒng)，包括沿管道依次流經(jīng)的砂濾罐、臭氧接觸池、活性炭罐、反滲透過濾器和EDI過濾器，所述砂濾罐、臭氧接觸池、活性炭罐、反滲透過濾器、EDI過濾器連接有與其相配套的泵，在所述臭氧接觸池的頂部還安裝有收集罐和與該收集罐相連接的臭氧處理器。
[0009]在所述臭氧接觸池的池底設(shè)有連通臭氧氣源的布?xì)夤堋?br>[0010]所述布?xì)夤芙诲e(cuò)排列，其氣孔孔徑大小為0.5?5mm。
[0011 ] 所述收集罐頂部設(shè)有安全閥。
[0012]活性炭罐的進(jìn)水口位于活性炭罐的底部，出水口位于活性炭罐的上部。
[0013]本實(shí)用新型的有益效果在于:
[0014]將晶硅片切割刃料行業(yè)排放的廢水進(jìn)行深度處理，并且將臭氧尾氣進(jìn)行收集和無害化處理，中水水體具有低COD和低電導(dǎo)率的特點(diǎn)，完全滿足中水回用后生產(chǎn)使用要求。
【附圖說明】
[0015]圖1中水回用系統(tǒng)示意圖；
[0016]圖2布?xì)夤軜?gòu)造示意圖；
[0017]圖中各部件名稱:1.第一離心泵；2.砂濾罐；3.臭氧接觸池；4.臭氧發(fā)生器；
5.布?xì)夤埽?.收集罐；7.臭氧處理器；8.第二離心泵；9.活性炭罐；10.增壓泵；11.反滲透過濾器；12.第三離心泵；13.EDI過濾器；14.尾氣收集口 ；15.安全閥。
【具體實(shí)施方式】
[0018]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0019]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明:
[0020]實(shí)施例:參見圖1、圖2，一種中水回用系統(tǒng)，包括沿管道依次流經(jīng)的砂濾罐2、臭氧接觸池3、活性炭罐9、反滲透過濾器11和EDI過濾器13，所述砂濾罐2、臭氧接觸池3、活性炭罐9、反滲透過濾器11、EDI過濾器13連接有與其相配套的泵，在所述臭氧接觸池3的頂部還安裝有收集罐6和與該收集罐6相連接的臭氧處理器7。
[0021]在所述臭氧接觸池3的池底設(shè)有連通臭氧氣源的布?xì)夤?。
[0022]所述布?xì)夤?交錯(cuò)排列，其氣孔孔徑大小為0.5?5mm。
[0023]所述收集罐6頂部設(shè)有安全閥15。臭氧臭氧發(fā)生器4流出，自尾氣收集口 14收集，臭氧處理器7對(duì)其進(jìn)行處理，避免后續(xù)污染。安全閥控制收集罐6內(nèi)的氣壓。
[0024]活性炭罐9的進(jìn)水口位于活性炭罐9的底部，出水口位于活性炭罐9的上部。
[0025]使用過程中，待處理的廢水通過第一離心泵I從砂濾罐2下部進(jìn)入，經(jīng)砂濾罐2內(nèi)的石英砂過濾后，濾除中水中的部分雜質(zhì)，從砂濾罐2上部流出進(jìn)入臭氧接觸池3，經(jīng)臭氧殺菌處理后，去除水體中的細(xì)菌及微生物，經(jīng)由臭氧接觸池3底部的第二離心泵8，將其泵入活性炭罐9，利用活性炭的微孔吸附作用，去除水中的有機(jī)物、膠體物質(zhì)等雜質(zhì)，并且活性炭罐9的進(jìn)水口位于活性炭罐9的底部，出水口位于上部。廢水經(jīng)活性炭過濾后，經(jīng)增壓泵10增壓，進(jìn)入反滲透過濾器11，在反滲透膜的選擇截留作用下，去除水體中的固體溶解物、有機(jī)物、膠體、微生物以及細(xì)菌等雜質(zhì)，最后由第三離心泵12泵入EDI過濾器13繼續(xù)凈化水體，去除水體中的污染物離子，降低水體的電導(dǎo)率。經(jīng)過上述處理，中水水體得到深度凈化處理，并且將臭氧尾氣進(jìn)行收集和無害化處理，廢水COD和電導(dǎo)率大大降低，可以回用于生產(chǎn)，完全可以滿足晶硅片切割刃料生產(chǎn)對(duì)水質(zhì)的要求。
[0026]最后需說明的是，以上所述者僅系本實(shí)用新型部份實(shí)施例，并非用以限制本實(shí)用新型。依據(jù)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)及特征，稍加變化修飾而成者，亦應(yīng)包括在本實(shí)用新型范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)，其特征在于:包括沿管道依次流經(jīng)的砂濾罐(2)、臭氧接觸池(3)、活性炭罐(9)、反滲透過濾器(11)和EDI過濾器(13)，所述砂濾罐(2)、臭氧接觸池(3)、活性炭罐(9)、反滲透過濾器(11)、EDI過濾器(13)連接有與其相配套的泵，在所述臭氧接觸池(3)的頂部還安裝有收集罐(6)和與該收集罐(6)相連接的臭氧處理器(7)。2.如權(quán)利要求1所述的晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)，其特征在于:在所述臭氧接觸池(3)的池底設(shè)有連通臭氧氣源的布?xì)夤?5)。3.如權(quán)利要求2所述的晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)，其特征在于:所述布?xì)夤?5)交錯(cuò)排列，其氣孔孔徑大小為0.5?5mm。4.如權(quán)利要求3所述的晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)，其特征在于:在所述收集罐(6)頂部設(shè)有安全閥(15)。5.如權(quán)利要求4所述的晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)，其特征在于:所述活性炭罐(9)的進(jìn)水口位于活性炭罐(9)的底部，出水口位于活性炭罐(9)的上部。
【專利摘要】本實(shí)用新型是一種晶硅片切割刃料的中水回用系統(tǒng)。本實(shí)用新型的旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中水處理過程中臭氧尾氣難以處理對(duì)人體、設(shè)備以及大氣造成危害的問題，以及中水處理不徹底、水體中COD殘留較高、電導(dǎo)率較高難以滿足回用生產(chǎn)使用要求的問題。本實(shí)用新型包括沿管道依次流經(jīng)的砂濾罐、臭氧接觸池、活性炭罐、反滲透過濾器和EDI過濾器，所述砂濾罐、臭氧接觸池、活性炭罐、反滲透過濾器、EDI過濾器連接有與其相配套的泵，在所述臭氧接觸池的頂部還安裝有收集罐和與該收集罐相連接的臭氧處理器。本實(shí)用新型的有益效果在于：將晶硅片切割刃料行業(yè)排放的廢水進(jìn)行深度處理，并且將臭氧尾氣進(jìn)行收集和無害化處理，中水水體具有低COD和低電導(dǎo)率的特點(diǎn)，完全滿足中水回用后生產(chǎn)使用要求。
【IPC分類】C02F9/06
【公開號(hào)】CN204689793
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520191906
【發(fā)明人】孫毅, 李森, 高延峰, 付春輝
【申請(qǐng)人】河南新大新材料股份有限公司
【公開日】2015年10月7日
【申請(qǐng)日】2015年4月1日