本技術涉及晶振，具體為一種晶振加工用清洗設備。

背景技術：

1、有一些電子設備需要頻率高度穩(wěn)定的交流信號，而lc振蕩器穩(wěn)定性較差，頻率容易漂移(即產(chǎn)生的交流信號頻率容易變化)，在振蕩器中采用一個特殊的元件——石英晶體，可以產(chǎn)生高度穩(wěn)定的信號，這種采用石英晶體的振蕩器稱為晶體振蕩器；晶體振蕩器即晶振在加工后使用前需要進行清洗，防止晶振上的石英晶體上積存的污垢過多而對晶振的使用產(chǎn)生影響，故提出一種可對多個晶振進行同時清潔且清潔效果好的晶振加工用的清洗設備。

2、在中國實用新型專利cn215354836u說明書中公開了一種晶振加工用的清洗設備，包括底面固定安裝有若干支撐座的清洗設備本體，清洗設備本體的頂面上固定安裝有豎向支撐梁；設置在豎向支撐梁上的用于承載待清洗晶振所設的晶振承載組件；固定安裝在清洗設備本體頂面上的滑軌，滑軌上安裝有可沿滑軌移動的滑塊，在滑塊上安裝有用于對晶振承載組件上的晶振進行清洗所設的晶振清潔組件；通過晶振清潔組件可以對晶振承載組件上的多塊待清洗的晶振進行清洗，使得晶振的石英晶體頂面上的污垢可以被清洗至容納盒中；橫向支撐梁設置有三根，每根橫向支撐梁上均設置有六個晶振容納槽，該設置可以使得多個晶振能夠被同時清洗，清洗效率高，其結構設計合理。

3、但是該裝置還缺少了伸縮的效果，導致在使用時，清洗的高度受限，不能調節(jié)高度，除此之外，該裝置還缺少了過濾的效果，導致在使用時，清理下來的臟物，容易造成出水口的堵塞。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種晶振加工用清洗設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

3、一種晶振加工用清洗設備，包括工作槽，所述工作槽的底部固定連接有腳架，所述腳架設置有四個，所述工作槽的外表面固定連接有出水組件，所述出水組件的頂部另一側固定連接有集水倉，所述工作槽的外表面固定連接有收納組件，所述收納組件設置有兩個，所述工作槽的頂部開設有兩個滑槽，所述兩個滑槽的內部均滑動連接有滑塊，所述滑塊的頂部固定連接有限位組件，所述兩個滑塊的頂部均固定連接有過濾組件，所述過濾組件包括支撐柱、過濾網(wǎng)和過濾槽，所述支撐柱設置有兩個，所述兩個支撐柱的底部分別固定連接于兩個滑塊的頂部，所述支撐柱的頂部固定連接有過濾槽，所述過濾槽的內部固定連接有過濾網(wǎng)，所述過濾槽的頂部固定連接有支撐架，所述支撐架的頂部一側固定連接有吊柱，所述吊柱的頂部一側固定連接有抓夾組件；

4、所述過濾槽的頂部固定連接有水泵，所述水泵的外表面固定連接有伸縮組件，所述伸縮組件包括伸縮管、第一旋鈕和噴頭，所述伸縮管的底部固定連接于水泵的外表面，所述伸縮管的外表面開設有若干圓孔，所述圓孔的內部螺紋連接有第一旋鈕，所述伸縮管的頂部固定連接有噴頭。

5、優(yōu)選的，所述出水組件包括水管和轉閥，所述水管的頂部一側固定連接于工作槽的外表面，所述水管的外表面轉動連接有轉閥。

6、優(yōu)選的，所述收納組件包括收納盒和螺絲，所述收納盒的外表面固定連接于工作槽的外表面，所述收納盒的內側壁螺紋連接有螺絲，所述螺絲開設有兩個。

7、優(yōu)選的，所述限位組件包括鐵片和螺栓，所述鐵片的底部固定連接于滑塊的頂部，所述鐵片的頂部螺紋連接有螺栓。

8、優(yōu)選的，所述抓夾組件包括連接塊、夾子和第二旋鈕，所述連接塊的底部固定連接于吊柱的頂部，所述連接塊的頂部固定連接有抓夾，所述抓夾的外表面螺紋連接有第二旋鈕。

9、優(yōu)選的，所述水泵的頂部一側固定連接有蓄水倉，所述蓄水倉的底部固定連接于過濾槽的頂部，所述蓄水倉的外表面開設有窗口。

10、與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：

11、1.該一種晶振加工用清洗設備，通過支撐柱、過濾網(wǎng)和過濾槽的設置，在使用時，通過支撐柱的設置，起到一個支撐的作用，再通過過濾槽的運行帶動過濾網(wǎng)進行運作，從而達到過濾臟物的效果。

12、2.該一種晶振加工用清洗設備，通過伸縮管、第一旋鈕和噴頭的設置，在使用時，通過伸縮管的設置，起到一個調節(jié)高度的作用，再通過第一旋鈕的配合使用，從而達到固定高度的作用。

技術特征：

1.一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：包括工作槽(1)，所述工作槽(1)的底部固定連接有腳架(2)，所述腳架(2)設置有四個，所述工作槽(1)的外表面固定連接有出水組件，所述出水組件的頂部另一側固定連接有集水倉(3)，所述工作槽(1)的外表面固定連接有收納組件，所述收納組件設置有兩個，所述工作槽(1)的頂部開設有兩個滑槽，所述兩個滑槽的內部均滑動連接有滑塊(4)，所述滑塊(4)的頂部固定連接有限位組件，所述兩個滑塊(4)的頂部均固定連接有過濾組件，所述過濾組件包括支撐柱(5)、過濾網(wǎng)(6)和過濾槽(7)，所述支撐柱(5)設置有兩個，所述兩個支撐柱(5)的底部分別固定連接于兩個滑塊(4)的頂部，所述支撐柱(5)的頂部固定連接有過濾槽(7)，所述過濾槽(7)的內部固定連接有過濾網(wǎng)(6)，所述過濾槽(7)的頂部固定連接有支撐架(8)，所述支撐架(8)的頂部一側固定連接有吊柱(9)，所述吊柱(9)的頂部一側固定連接有抓夾組件；

2.根據(jù)權利要求1所述的一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：所述出水組件包括水管(14)和轉閥(15)，所述水管(14)的頂部一側固定連接于工作槽(1)的外表面，所述水管(14)的外表面轉動連接有轉閥(15)。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：所述收納組件包括收納盒(16)和螺絲，所述收納盒(16)的外表面固定連接于工作槽(1)的外表面，所述收納盒(16)的內側壁螺紋連接有螺絲，所述螺絲開設有兩個。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：所述限位組件包括鐵片(17)和螺栓(18)，所述鐵片(17)的底部固定連接于滑塊(4)的頂部，所述鐵片(17)的頂部螺紋連接有螺栓(18)。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：所述抓夾組件包括連接塊(19)、夾子(20)和第二旋鈕(21)，所述連接塊(19)的底部固定連接于吊柱(9)的頂部，所述連接塊(19)的頂部固定連接有抓夾，所述抓夾的外表面螺紋連接有第二旋鈕(21)。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種晶振加工用清洗設備，其特征在于：所述水泵(10)的頂部一側固定連接有蓄水倉(22)，所述蓄水倉(22)的底部固定連接于過濾槽(7)的頂部，所述蓄水倉(22)的外表面開設有窗口。

技術總結
本技術涉及晶振技術領域，具體為一種晶振加工用清洗設備，包括工作槽，所述工作槽的底部固定連接有腳架，所述腳架設置有四個，所述工作槽的外表面固定連接有出水組件，所述出水組件的頂部另一側固定連接有集水倉，所述工作槽的外表面固定連接有收納組件，所述收納組件設置有兩個，所述工作槽的頂部開設有兩個滑槽，所述兩個滑槽的內部均滑動連接有滑塊，所述滑塊的頂部固定連接有限位組件，所述兩個滑塊的頂部均固定連接有過濾組件。本技術通過支撐柱、過濾網(wǎng)和過濾槽的設置，在使用時，通過支撐柱的設置，起到一個支撐的作用，再通過過濾槽的運行帶動過濾網(wǎng)進行運作，從而達到過濾臟物的效果。

技術研發(fā)人員：李瑤,譚文凱,謝美玲
受保護的技術使用者：深圳市福浪電子有限公司
技術研發(fā)日：20231229
技術公布日：2024/10/21