環(huán)形件的淬火裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提出了一種環(huán)形件的淬火裝置，用于對一環(huán)形件進行淬火處理，該淬火裝置包括用于支撐環(huán)形件的支撐裝置、加熱裝置及冷卻裝置，所述支撐裝置包括用于支撐環(huán)形件的圓形的支架，所述支架的外周緣均勻設有若干限位塊，每一限位塊的內(nèi)側(cè)面為圓弧狀，在環(huán)形件設于支架上后各限位塊的內(nèi)表面抵靠于環(huán)形件的外表面，所述支架上設有若干貫通孔，所述支撐裝置還包括可另裝設于支架下方的圓盤，所述圓盤上設有若干與貫通孔個數(shù)對應，并可分別穿過各貫通孔而使其外側(cè)面抵靠于環(huán)形件內(nèi)表面的滑塊，每一滑塊的外側(cè)面為圓弧狀。本實用新型中的支撐裝置的限位塊及圓盤的滑塊可防止環(huán)形件加熱向外膨脹或冷卻向內(nèi)收縮，防止產(chǎn)生尺寸偏差。
【專利說明】環(huán)形件的淬火裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種淬火裝置，特別是指一種環(huán)形件的淬火裝置。

【背景技術】
[0002]熱處理是金屬部件生產(chǎn)工序中的特殊控制工序，一般分為加熱、保溫、冷卻等工序。熱處理工藝根據(jù)不同的部件熱處理溫度，結合不同的部件冷卻速度，分為正火、退火、回火、淬火及其他工藝。淬火是這些中工藝中最重要的一種工藝，淬火后能使部件綜合能力得到大幅度提高?，F(xiàn)有的環(huán)形件的淬火過程通常采用先加熱后再經(jīng)過兩次冷卻處理，但該加熱及冷卻處理過程中難免會存在一些溫度上的偏差，由此導致環(huán)形件的內(nèi)外徑產(chǎn)生偏差，從而影響環(huán)形件后續(xù)使用。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型提出一種環(huán)形件的淬火裝置，解決了現(xiàn)有技術中由于溫度偏差而導致的尺寸的偏差的問題。
[0004]本實用新型的技術方案是這樣實現(xiàn)的:
[0005]一種環(huán)形件的淬火裝置，用于對一環(huán)形件進行淬火處理，該淬火裝置包括用于支撐該環(huán)形件的支撐裝置、對該環(huán)形件進行加熱的加熱裝置及對加熱后的環(huán)形件進行冷卻的冷卻裝置，所述支撐裝置包括用于支撐環(huán)形件的圓形的支架，所述支架的外周緣均勻設有若干限位塊，每一限位塊的內(nèi)側(cè)面為圓弧狀，在環(huán)形件設于支架上后各限位塊的內(nèi)表面抵靠于環(huán)形件的外表面，所述支架上設有若干貫通孔，所述支撐裝置還包括可另裝設于支架下方的圓盤，所述圓盤上設有若干與貫通孔個數(shù)對應，并可分別穿過各貫通孔而使其外側(cè)面抵靠于環(huán)形件內(nèi)表面的滑塊，每一滑塊的外側(cè)面為圓弧狀。
[0006]本實用新型的有益效果為:
[0007]本實用新型中的淬火裝置由于支架的外周緣設有與環(huán)形件抵靠的限位塊，防止加熱過程中環(huán)形件受熱向外膨脹而影響其尺寸；由于所述圓盤及滑塊可另裝設于支架下方，當對環(huán)形件進行冷卻時，使圓盤裝設于支架下方并使各滑塊分別穿過各貫通孔而使其外側(cè)面抵靠于環(huán)形件內(nèi)表面，從而防止環(huán)形件在冷卻過程中向內(nèi)收縮而產(chǎn)生尺寸偏差，進而防止淬火裝置由于溫度偏差而導致的尺寸的偏差的問題。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0009]圖1為本實用新型的淬火裝置處于加熱狀態(tài)的剖視圖；
[0010]圖2圖1中支撐裝置部分的立體圖；
[0011]圖3為圖1中圓盤部分的立體圖；
[0012]圖4為圖1中滑塊部分的立體圖；
[0013]圖5為圖1中的淬火裝置處于冷卻狀態(tài)的剖視圖。
[0014]圖中:
[0015]10、支撐裝置；20、加熱裝置；30、冷卻裝置；40、環(huán)形件；41、環(huán)形頂壁；43、環(huán)形側(cè)壁；11、底座；12、軸體；13、抵靠件；14、支架；140、內(nèi)環(huán)；141、外環(huán)；143、肋條；144、貫通孔；145、限位塊；15、內(nèi)置件；150、凸緣；16、圓盤；160、開口 ；162、滑槽；18、滑塊；180、水平部；182、豎直部；181、滑軌；183、楔形端面；130、底盤；131、抵靠部；132、抵靠面。

【具體實施方式】
[0016]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0017]如圖1所示，該淬火裝置包括一支撐裝置10、圍設于該支撐裝置10外周的加熱裝置20及圍設于該支撐裝置10外周并位于加熱裝置20下方的冷卻裝置30。
[0018]請同時參閱圖2，所述淬火裝置用于對環(huán)形件40進行淬火處理，該環(huán)形件40包括一環(huán)形頂壁41及由該環(huán)形頂壁41的周緣向下延伸形成的環(huán)形側(cè)壁43。
[0019]所述支撐裝置10包括一圓筒狀的底座11、剛好插設于該底座11內(nèi)的一圓柱形的軸體12及套設于該底座11外側(cè)的一抵靠件13，所述軸體12、底座11及抵靠件13同軸配置。
[0020]所述軸體12的底端與第一升降裝置(圖未示)連接，通過驅(qū)動該第一升降裝置可使軸體12相對于底座11上下移動。
[0021]所述軸體12頂端的外周面套設有一用于支撐環(huán)形件40的圓形的支架14。所述支架14可由如陶瓷等非磁性材料或低磁性材料制成，其包括一套設并固定于軸體外側(cè)的內(nèi)環(huán)140、與該內(nèi)環(huán)140同軸配置并位于同一平面上的外環(huán)141及連接于所述內(nèi)環(huán)140與外環(huán)141之間且等間隔的若干肋條143。所述外環(huán)141的外緣與環(huán)形件40的外緣尺寸相同。本實施例中，所述肋條143為8個，具體實施時，可根據(jù)情況適當?shù)淖兏?。每相鄰兩肋條143之間形成一貫通孔144。所述外環(huán)141的外緣還均勻設有若干限位塊145，本實施例中，所述限位塊145也為8個。所述限位塊145可由如陶瓷等非磁性材料或低磁性材料制成，每一限位塊145與一支架14的貫通孔144對應，且其橫截面為圓弧狀。具體實施時，所述各限位塊145也可僅內(nèi)側(cè)面為圓弧狀。在環(huán)形件40設于支架14上后，所述各限位塊145的整個內(nèi)表面均抵靠于環(huán)形件40的外表面。
[0022]所述軸體12的頂端還卡設有一圓柱形的內(nèi)置件15，所述內(nèi)置件15的中部外周緣設有一凸緣150。在所述環(huán)形件40設于支架14上后，所述內(nèi)置件15收容于環(huán)形件40的環(huán)形頂壁41的內(nèi)孔內(nèi)，且其外周緣與該環(huán)形件40的環(huán)形頂壁41的內(nèi)孔的內(nèi)周緣相抵靠；所述凸緣150的頂面抵靠于環(huán)形件40的頂壁的內(nèi)表面。
[0023]所述底座11頂端的外周面還套設并固定有一環(huán)狀的圓盤16，所述圓盤16的頂端與冷卻裝置30相對。請同時參閱圖3，所述圓盤16的內(nèi)孔周緣均勻設有若干與該內(nèi)孔連通的開口 160，所述開口 160的個數(shù)與支架14上貫通孔144的個數(shù)相對應。該圓盤16的頂面上設有若干與開口 160對應的滑槽162，每一滑槽162由為倒T形，其由開口 160向外呈放射狀延伸至貫穿該圓盤16的邊端。該圓盤16上對應各滑槽162位置分別卡設有一滑塊18。請參閱圖4，每一滑塊18大致為L形，其包括一水平部180及一豎直部182。所述水平部180的底端的兩側(cè)分別設有一滑軌181，所述滑軌181滑動設于圓盤16的滑槽162內(nèi)，從而使所述滑塊18可相對于圓盤16滑動。所述滑塊18的水平部180的端部形成一楔形端面183，所述滑塊18的豎直部182的橫截面為圓弧形。具體實施時，所述滑塊18也可僅外側(cè)面為圓弧狀。
[0024]請再次參閱圖1及圖2，所述抵靠件13包括一圓環(huán)狀的底盤130及均勻設于該底盤130上的若干抵靠部131。所述抵靠部131的個數(shù)與所述支架14的貫通孔144的個數(shù)相同。每一抵靠部131為方柱狀，并由底盤130上向上垂直延伸，其頂端具有一傾斜設置的抵靠面132。各抵靠部131由圓盤16的開口 160穿過而使其抵靠面132與所述滑塊18的楔形端面183相抵靠。所述底盤130的底端與第二升降裝置(圖未示)連接，通過驅(qū)動該第二升降裝置可使抵靠件13上下移動并使抵靠面132抵靠滑塊18的楔形端面183而使滑塊18沿圓盤16的滑槽162滑動。
[0025]所述加熱裝置20可為環(huán)形設置的加熱線圈，通過其電連接對其內(nèi)的環(huán)形件40進行加熱。所述冷卻裝置30可為其內(nèi)設有冷卻劑的冷卻槽，所述冷卻槽的側(cè)壁設有若干小孔，通過所述小孔可向冷卻槽內(nèi)噴射冷卻劑。
[0026]請再次參閱圖1，當該淬火裝置對環(huán)形件40進行加熱時，將環(huán)形件40設于支架14上，并使環(huán)形件40的外周面與限位塊145相抵靠，內(nèi)置件15的外周緣抵靠于環(huán)形件40的環(huán)形頂壁41的內(nèi)孔內(nèi)，凸緣150抵靠于環(huán)形件40的環(huán)形頂壁41的下方，以對環(huán)形件40定位；通過調(diào)整第一升降裝置使軸體12上下移動，使環(huán)形件40與加熱裝置20正相對，再通過加熱裝置20對環(huán)形件40進行加熱。由于限位塊145與環(huán)形件40的外周面相抵靠，防止加熱過程中環(huán)形件40受熱向外膨脹而影響其尺寸。
[0027]請參閱圖5，當該淬火裝置對環(huán)形件40進行冷卻時，通過第一升降裝置使軸體12帶動支架14及環(huán)形件40 —起下移，使環(huán)形件40與冷卻裝置30正相對，此時，所述支架14位于圓盤16上，并使滑塊18的頂端穿過支架14的貫通孔144而使其外側(cè)面抵靠于環(huán)形件40的環(huán)形側(cè)壁43的內(nèi)部，再通過冷卻裝置30對環(huán)形件40先后進行兩次冷卻。由于滑塊18的外側(cè)面抵靠于環(huán)形件40的環(huán)形側(cè)43壁的內(nèi)部，從而防止該環(huán)形件40在冷卻過程中向內(nèi)收縮而產(chǎn)生尺寸偏差。再對環(huán)形件40完成兩次冷卻后，通過驅(qū)動第二升降裝置使抵靠件13向下移動從而撤銷對滑塊18的楔形端面183的抵靠，使滑塊18可向圓盤16內(nèi)側(cè)移動而撤銷對環(huán)形件40內(nèi)表面的抵靠，從而使環(huán)形件40能容易拆卸。另外，由于抵靠件13能上下移動使其抵靠面132可與滑塊18的楔形端面183抵靠，使滑塊18能有沿圓盤16的滑槽162滑動，從而能適應環(huán)形側(cè)壁43的不同內(nèi)孔尺寸，增強其通用性。
[0028]具體實施時，所述環(huán)形件40的結構不限于上述實施例的情況，其也可僅為具有環(huán)形側(cè)壁43的環(huán)形件。所述淬火裝置的結構也不限于上述實施例的情況，其可根據(jù)具體情況適當?shù)淖兏灰ＷC在加熱時于環(huán)形件40外側(cè)抵靠有限位塊145，在冷卻時，同時于環(huán)形件40的內(nèi)側(cè)面抵靠有滑塊18的結構即可。
[0029]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權利要求】
1.一種環(huán)形件的淬火裝置，用于對一環(huán)形件進行淬火處理，該淬火裝置包括用于支撐該環(huán)形件的支撐裝置、對該環(huán)形件進行加熱的加熱裝置及對加熱后的環(huán)形件進行冷卻的冷卻裝置，其特征在于:所述支撐裝置包括用于支撐環(huán)形件的圓形的支架，所述支架的外周緣均勻設有若干限位塊，每一限位塊的內(nèi)側(cè)面為圓弧狀，在環(huán)形件設于支架上后各限位塊的內(nèi)表面抵靠于環(huán)形件的外表面，所述支架上設有若干貫通孔，所述支撐裝置還包括可另裝設于支架下方的圓盤，所述圓盤上設有若干與貫通孔個數(shù)對應，并可分別穿過各貫通孔而使其外側(cè)面抵靠于環(huán)形件內(nèi)表面的滑塊，每一滑塊的外側(cè)面為圓弧狀。
2.如權利要求1所述的環(huán)形件的淬火裝置，其特征在于:所述支撐裝置還包括一圓筒狀的底座及插設于該底座內(nèi)的一圓柱形的軸體，所述支架套設并固定于該軸體上，所述軸體的底端與一升降裝置連接，所述圓盤套設并固定于該底座上，所述加熱裝置及冷卻裝置均圍設于支撐裝置的外圍，且所述冷卻裝置位于加熱裝置的下方，所述圓盤的頂端與所述冷卻裝置相對。
3.如權利要求2所述的環(huán)形件的淬火裝置，其特征在于:所述環(huán)形件包括一環(huán)形頂壁及由該環(huán)形頂壁的周緣向下延伸形成的環(huán)形側(cè)壁，所述軸體的頂端還卡設有一圓柱形的內(nèi)置件，所述內(nèi)置件的中部外周緣設有一凸緣，所述環(huán)形件設于支架上后，所述內(nèi)置件收容于環(huán)形件的環(huán)形頂壁的內(nèi)孔內(nèi)，且其外周緣與該環(huán)形件的環(huán)形頂壁的內(nèi)孔的內(nèi)周緣相抵靠，所述凸緣的頂面抵靠于環(huán)形件的頂壁的內(nèi)表面。
4.如權利要求2所述的環(huán)形件的淬火裝置，其特征在于:所述圓盤為圓環(huán)狀，其內(nèi)孔周緣均勻設有與該內(nèi)孔連通的若干開口，所述開口的個數(shù)與支架上貫通孔的個數(shù)相對應，所述圓盤的頂面上設有分別與各開口對應連通的若干滑槽，各滑塊的底端分別設于各滑槽內(nèi)并可沿滑槽移動，所述支撐裝置還包括套設于底座外側(cè)的抵靠件，所述抵靠件包括圓環(huán)狀的底盤及設于該底盤上并可分別穿設于圓盤的各開口內(nèi)的若干抵靠部，每一抵靠部的頂端形成可與滑塊側(cè)面抵靠并使其可沿滑道滑動的抵靠面，所述抵靠件的底端與另一升降裝置連接。
5.如權利要求4所述的環(huán)形件的淬火裝置，其特征在于:每一滑塊為L形，其包括一水平部及一豎直部，所述水平部的端部形成與抵靠部的抵靠面抵靠的楔形端面，所述豎直部的外側(cè)面為與環(huán)形件的內(nèi)部抵靠的圓弧狀。
6.如權利要求1所述的環(huán)形件的淬火裝置，其特征在于:所述支架為陶瓷支架，所述限位塊為陶瓷限位塊。
【文檔編號】C21D9/40GK204039452SQ201420388986
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年7月14日 優(yōu)先權日:2014年7月14日
【發(fā)明者】田紹潔, 回博陽, 王偉 申請人:大連圣潔真空技術開發(fā)有限公司