量子點(diǎn)顯示面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種量子點(diǎn)顯示面板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，人們對(duì)顯示裝置的顯示質(zhì)量要求也越來越高。量子點(diǎn)(Quantum Dots，簡(jiǎn)稱QDs)通常是由I1- V1、或II1- V族元素組成的球形或類球形的半導(dǎo)體納米微粒，粒徑一般在幾納米至數(shù)十納米之間。由于QDs的粒徑尺寸小于或者接近相應(yīng)體材料的激子波爾半徑，會(huì)產(chǎn)生量子限域效應(yīng)，其能級(jí)結(jié)構(gòu)從體材料的準(zhǔn)連續(xù)變?yōu)榱孔狱c(diǎn)材料的離散結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致QDs展示出特殊的受激輻射發(fā)光的性能。隨著QDs的尺寸減小，其能級(jí)帶隙增加，相應(yīng)的QDs受激所需要的能量以及QDs受激后回到基態(tài)放出的能量都相應(yīng)的增大，表現(xiàn)為QDs的激發(fā)與熒光光譜的“藍(lán)移”現(xiàn)象，通過控制QDs的尺寸，使其發(fā)光光譜可以覆蓋整個(gè)可見光區(qū)域。如砸化鎘(CdSe)的尺寸從6.6nm減小至2.0nm，其發(fā)光波長(zhǎng)從紅光區(qū)域635nm “藍(lán)移”至藍(lán)光區(qū)域的460nm。
[0003]量子點(diǎn)材料具有發(fā)光光譜集中，色純度高、且發(fā)光顏色可通過量子點(diǎn)材料的尺寸、結(jié)構(gòu)或成分進(jìn)行簡(jiǎn)易調(diào)節(jié)等優(yōu)點(diǎn)，利用這些優(yōu)點(diǎn)將其應(yīng)用在顯示裝置中可有效地提升顯示裝置的色域及色彩還原能力。如專利CN102944943A、及專利US20150002788A1均提出了用具有圖案結(jié)構(gòu)的量子點(diǎn)層替代彩色濾光膜(Color Filter)以達(dá)到彩色顯示目的的技術(shù)方案，但是該些專利并未對(duì)量子點(diǎn)層圖形化的方法進(jìn)行說明。
[0004]專利CN103226260A提供了一種把量子點(diǎn)分散于光刻膠中，通過光刻工藝圖形化量子點(diǎn)層的方法，但量子點(diǎn)分散于光刻膠中，由于光刻膠中具有起始劑(initiat1n)、聚合物單體(monomer)、聚合物(polymer)、添加劑(additive)等多種高分子材料，量子點(diǎn)的表面化學(xué)環(huán)境復(fù)雜，對(duì)量子點(diǎn)的發(fā)光效率影響很大。除上述方法以外，還可以通過轉(zhuǎn)印、網(wǎng)印等方法來制作量子點(diǎn)圖形，但是轉(zhuǎn)印的方法所得到的量子點(diǎn)圖形分辨率不高，圖形邊緣呈現(xiàn)鋸齒狀，并且量子點(diǎn)層與基體的黏著力有待提高；而噴墨打印形成圖形化量子點(diǎn)層的方法對(duì)噴墨打印設(shè)備要求很高，如何保證噴墨墨滴的穩(wěn)定性及打印精度仍有技術(shù)壁皇，仍不能大規(guī)模生產(chǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種量子點(diǎn)顯示面板的制作方法，原料制備及制作工藝簡(jiǎn)單、圖形解析度高、可大規(guī)模量產(chǎn)，節(jié)約成本與制程時(shí)間。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了量子點(diǎn)顯示面板的制作方法，包括如下步驟:
[0007]步驟1、將經(jīng)表面修飾的紅色量子點(diǎn)、經(jīng)表面修飾的綠色量子點(diǎn)、堿可溶性樹脂、溶劑、分散劑、及添加劑按一定比例混合均勻，得到量子點(diǎn)樹脂組合物；
[0008]步驟2、提供彩膜基板，所述彩膜基板包括襯底基板、位于所述襯底基板上的黑色矩陣、及彩色濾光層，所述彩色濾光層包括紅色色阻層、綠色色阻層、及透明光阻層；
[0009]采用旋涂或狹縫式涂布的方式將所述量子點(diǎn)樹脂組合物均勻地涂布在所述彩膜基板的彩色濾光層的一側(cè)，隨后，將涂有所述量子點(diǎn)樹脂組合物的彩膜基板在100-150°C的溫度下進(jìn)行預(yù)烘烤，去除量子點(diǎn)樹脂組合物中的有機(jī)溶劑，得到量子點(diǎn)膜；
[0010]步驟3、采用黃光制程、或結(jié)合干法蝕刻制程對(duì)所述量子點(diǎn)膜進(jìn)行圖案化處理，去除掉所述量子點(diǎn)膜上對(duì)應(yīng)所述透明光阻層的部分，得到量子點(diǎn)層，進(jìn)而完成量子點(diǎn)彩膜基板的制作；
[0011]步驟4、提供TFT基板，在所述量子點(diǎn)彩膜基板與TFT基板上分別設(shè)置上偏光片與下偏光片；并經(jīng)過液晶成盒制程后得到量子點(diǎn)顯示面板；
[0012]所述量子點(diǎn)顯示面板包括量子點(diǎn)彩膜基板、與所述量子點(diǎn)彩膜基板相對(duì)設(shè)置的TFT基板、密封于所述量子點(diǎn)彩膜基板與TFT基板之間的液晶層、位于所述量子點(diǎn)彩膜基板一側(cè)的上偏光片、及位于所述TFT基板一側(cè)的下偏光片。
[0013]所述步驟3中采用黃光制程對(duì)所述量子點(diǎn)膜進(jìn)行圖案化處理，所述步驟3具體包括以下步驟:
[0014]步驟31、采用旋涂或狹縫式涂布的方式在所述經(jīng)預(yù)烘烤后得到量子點(diǎn)膜上均勻地涂布一層透明光刻膠材料；
[0015]步驟32、提供光罩，利用光罩對(duì)所述透明光刻膠材料進(jìn)行曝光、顯影，所述光罩包括對(duì)應(yīng)所述紅色色阻層和綠色色阻層的透光部分、及對(duì)應(yīng)所述透明光阻層的不透光部分；在曝光過程中，位于所述透光部分下的透明光刻膠材料在光照下發(fā)生聚合反應(yīng)而固化，位于所述不透光部分下的透明光刻膠材料不發(fā)生聚合反應(yīng)而未固化，在顯影過程時(shí)，該固化的透明光刻膠材料不會(huì)被顯影液洗掉，對(duì)應(yīng)的位于其下的量子點(diǎn)膜的部分也會(huì)被保留下來，而未固化的光刻膠材料及對(duì)應(yīng)的位于其下的量子點(diǎn)膜的部分會(huì)被顯影液清洗掉；從而得到圖案化的量子點(diǎn)層及位于其上的光阻層；
[0016]步驟33、在150_250°C的溫度下對(duì)所述彩膜基板進(jìn)行烘烤處理，以對(duì)所述量子點(diǎn)層進(jìn)行充分固化。
[0017]所述步驟3中采用黃光制程結(jié)合干法蝕刻制程對(duì)所述量子點(diǎn)膜進(jìn)行圖案化處理，所述步驟3具體包括以下步驟:
[0018]步驟31’、經(jīng)步驟2的預(yù)烘烤后，再在200_250°C的溫度下對(duì)所述彩膜基板進(jìn)行烘烤處理，以使得所述量子點(diǎn)膜充分固化；
[0019]步驟32’、采用旋涂或狹縫式涂布的方式在所述量子點(diǎn)膜上均勻地涂布一層透明光刻膠材料；提供光罩，利用光罩對(duì)所述透明光刻膠材料進(jìn)行曝光、顯影，得到圖案化的光阻層；所述光罩包括對(duì)應(yīng)所述紅色色阻層和綠色色阻層的透光部分、及對(duì)應(yīng)所述透明光阻層的不透光部分；
[0020]步驟33’、以所述光阻層為遮蔽層，采用干法蝕刻工藝對(duì)所述彩膜基板進(jìn)行處理，在干法蝕刻過程中，所述量子點(diǎn)膜的位于所述紅色色阻層和綠色色阻層上的部分受到所述光阻層的覆蓋保護(hù)從而在干法蝕刻過程不被蝕刻掉，而所述量子點(diǎn)膜的位于所述透明光阻層上的部分沒有所述光阻層覆蓋保護(hù)從而在干法蝕刻過程中被蝕刻掉，得到圖案化的量子點(diǎn)層。
[0021]所述步驟1中，所述量子點(diǎn)樹脂組合物中的紅色量子點(diǎn)與綠色量子點(diǎn)為I1-VI族半導(dǎo)體材料、II1- V族半導(dǎo)體材料、IV -VI族納米半導(dǎo)體材料中的一種或多種，所述紅色量子點(diǎn)與綠色量子點(diǎn)的粒徑為l-10nm。
[0022]所述步驟1中，所述堿可溶性樹脂由苯乙烯與馬來酸酐共聚物組成、或由苯乙烯與芳香酸(甲基)丙烯酸半酯組成。
[0023]所述步驟1中，所述溶劑為甲酸、乙酸、氯仿、丙酮、丁酮、脂肪醇、乙二醇單甲醚、
乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇二乙醚乙酸乙酯、甲乙酮、甲基異丁基酮、單甲基醚乙二醇酯、γ - 丁內(nèi)酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇、醋酸酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯、環(huán)己烷、二甲苯和和異丙醇中的一種或多種組成。
[0024]所述步驟2中，在所述彩膜基板上涂布量子點(diǎn)樹脂組合物的厚度為1 μ m-200 μ m。
[0025]所述步驟4中所得到的量子點(diǎn)顯示面板中，所述上偏光片采用內(nèi)置式，所述上偏光片設(shè)置于所述量子點(diǎn)彩膜基板面對(duì)所述TFT基板的一側(cè)；所述上偏光片為染料系偏光片。
[0026]所述步驟4中所得到的量子點(diǎn)顯示面板中，所述下偏光片采用內(nèi)置式或外置式，所述下偏光片設(shè)置于所述TFT基板面對(duì)或遠(yuǎn)離所述量子點(diǎn)彩膜基板的一側(cè)；所述下偏光片的偏振方向與上偏光片的偏振方向垂直。
[0027]所述步驟4中所得到的量子點(diǎn)顯示面板用于背光為藍(lán)光的顯示裝置中。
[0028]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供了一種量子點(diǎn)顯示面板的制作方法，借由彩色濾光片的現(xiàn)有的黃光制程、或結(jié)合干法蝕刻制程將含有表面修飾的紅色、綠色量子點(diǎn)的樹脂組合物制作得到具有較為精細(xì)圖形結(jié)構(gòu)的量子點(diǎn)層，與其他現(xiàn)有的量子點(diǎn)顯示面板的制作方法相比，具有原料制備及制