本申請涉及半導(dǎo)體,具體涉及一種光刻機(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置及其使用方法。
背景技術(shù):
1、在半導(dǎo)體器件的各種加工工藝中,光刻處于硅片加工工程的中心環(huán)節(jié),其本質(zhì)是把臨時電路結(jié)構(gòu)復(fù)制到需要進(jìn)行刻蝕和離子注入的硅片上,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠上刻畫特征圖形,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上。對于光刻機(jī)及附屬設(shè)備來說,由于機(jī)臺內(nèi)部含有大量發(fā)熱光源和發(fā)熱控制模塊等零部件,需用工藝?yán)鋮s水冷卻,同時水管冷卻部件布置其中。當(dāng)機(jī)臺發(fā)生故障,需要更換部件時,首先需要排除機(jī)臺內(nèi)冷卻水,才能拆除零部件上的冷卻水管并進(jìn)行更換。
2、現(xiàn)有離線排水工具中,只有氣管和普通排水管,盛水裝置就是如圖1所示的普通水桶或水箱,裝滿水后需要不停的倒水再排水,倒水不便的同時由于水壓過大,有時水花濺射出來,影響精密設(shè)備部件和人員安全,會造成重大安全隱患。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本申請的目的在于提供一種光刻機(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置及其使用方法,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中機(jī)臺裝置排水直接裝入普通水桶或水箱,倒水不便,且排水過程中容易濺射出水花,影響周邊部件的問題。
2、為實現(xiàn)上述目的及其它相關(guān)目的,本申請?zhí)峁┮环N光刻機(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置,包括:
3、一水箱箱體,頂部設(shè)置有可翻轉(zhuǎn)的水箱蓋,底部四角設(shè)置有滾輪;
4、一水管快接頭,設(shè)置于水箱箱體的側(cè)面;
5、一排水管,一端連接水箱快接頭,另一端連接光刻機(jī)及附屬設(shè)備的機(jī)臺裝置排水口接頭;
6、一氣源裝置,該氣源裝置儲存或產(chǎn)生壓縮空氣;以及
7、一導(dǎo)氣管,一端連接氣源裝置,另一端連接光刻機(jī)及附屬設(shè)備的機(jī)臺裝置進(jìn)氣口。
8、優(yōu)選的,水管快接頭設(shè)置于水箱箱體側(cè)面的下部。
9、優(yōu)選的,水管快接頭采用快插等徑直接式水管快接頭。
10、優(yōu)選的,排水管采用外徑為20mm的ppr管。
11、優(yōu)選的,儲存壓縮空氣的氣源裝置包括儲氣瓶或儲氣罐。
12、優(yōu)選的,產(chǎn)生壓縮空氣的氣源裝置包括空氣泵。
13、本申請還提供一種如上述光刻機(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置的使用方法,排水前,用排水管連接光刻機(jī)及附屬設(shè)備的機(jī)臺裝置排水口接頭和水管快接頭,用導(dǎo)氣管連接光刻機(jī)及附屬設(shè)備的機(jī)臺裝置進(jìn)氣口和氣源裝置,在機(jī)臺裝置關(guān)閉總進(jìn)水閥門后,打開機(jī)臺裝置進(jìn)氣口開關(guān)和出水口開關(guān);排水后至水箱箱體即將盛滿水時,關(guān)閉機(jī)臺裝置內(nèi)出水閥和進(jìn)氣閥,拔出水箱箱體側(cè)面的排水管將水箱箱體推至專用水池將水倒出。
14、如上所述,本申請?zhí)峁┑墓饪虣C(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置及其使用方法,具有以下有益效果:操作簡單,方便快捷,成本低廉,抽水效果好,具備防濺水功能,保證光刻機(jī)及附屬設(shè)備周圍精密部件不被損壞。
1.一種光刻機(jī)及附屬設(shè)備的冷卻水排水裝置,其特征在于,所述排水裝置包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排水裝置,其特征在于,所述水管快接頭(102)設(shè)置于所述水箱
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的排水裝置,其特征在于,所述水管快接頭(102)采用快插等
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排水裝置,其特征在于,所述排水管(103)采用外徑為20mm的
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排水裝置,其特征在于,所述儲存壓縮空氣的氣源裝置(106)包
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排水裝置,其特征在于,所述產(chǎn)生壓縮空氣的氣源裝置(106)包
7.一種如權(quán)利要求1-6所述的排水裝置的使用方法,其特征在于,排水前,用所述排水