專利名稱：用于微光刻的照明光學(xué)部件的制作方法
用于微光刻的照明光學(xué)部件本發(fā)明涉及用于微光刻的照明光學(xué)部件。本發(fā)明還涉及包括該類型的照明光學(xué)部 件的照明系統(tǒng)、包括該類型的照明系統(tǒng)的投射曝光設(shè)備、生產(chǎn)結(jié)構(gòu)化部件的方法、以及依照 該類型方法生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)化部件。本發(fā)明的一個(gè)目的是開發(fā)在前面提到的照明光學(xué)部件類型，這樣可以影響和/或 監(jiān)視物場(chǎng)上的照明強(qiáng)度分布，以使在至少可能的程度上影響照明角分布而同時(shí)確保照明光 學(xué)部件尺寸盡可能小。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)用于微光刻的照明光學(xué)部件實(shí)現(xiàn)該目的，該照明光學(xué)部件包 括_光學(xué)組件，用于將照明光引導(dǎo)到物平面中要照明的物場(chǎng)；-其中，該照明光學(xué)部件將照明光輻射束分成多個(gè)輻射子束，該多個(gè)輻射子束分配 給物場(chǎng)照明的不同照明角；其中，照明光學(xué)部件被配置以使輻射子束中的至少一些在交疊平面中交疊，該交 疊平面與物平面分開且不被成像到其中發(fā)生交疊的物平面，從而交疊的輻射子束的邊緣至 少部分地重合。根據(jù)本發(fā)明，物平面空間上與照明光的輻射子束的交疊平面分開。物平面和交疊 平面不構(gòu)成彼此成像的平面；物平面因此可以直接接著交疊平面布置。物平面和交疊平面 之間不需要光學(xué)部件來(lái)引導(dǎo)照明光。在交疊平面中，可以布置用于設(shè)定物場(chǎng)上的照明強(qiáng)度 分布或用于例如通過(guò)傳感器監(jiān)測(cè)物場(chǎng)上照明強(qiáng)度分布的裝置。這個(gè)布置使得該裝置在輻射子束的重合位置點(diǎn)與照明光相互作用，從而可同時(shí)可 探測(cè)所有交疊輻射子束，換句話說(shuō)，來(lái)自一些或所有照明角的輻射子束。如所期望，照明光 因此在與物平面分開的交疊平面中可探測(cè)。根據(jù)本發(fā)明的照明光學(xué)部件可以但不是必須包 括多面鏡(facet mirror)。也可以設(shè)想使用例如蜂窩聚光器，S卩，分成多個(gè)單個(gè)通道的透射 光學(xué)元件，和/或用于將照明光輻射束分成輻射子束的至少一個(gè)衍射元件。根據(jù)本發(fā)明，輻 射子束的子束邊緣部分的部分疊加(換句話說(shuō)，重合疊加)就足夠了。交疊輻射子束的其 余子束邊緣部分不需要重合；在這些部分中，像差是可容許的。在近似矩形輻射子束的情況 中，例如，四個(gè)子束邊緣之一處的交疊就足夠了。交疊平面中輻射子束的交疊點(diǎn)處，例如，可 以為不受照明角影響的附加傳感器系統(tǒng)來(lái)解耦輻射，該不受照明角影響的附加傳感系統(tǒng)則 能夠提供關(guān)于物場(chǎng)照明的、有價(jià)值的、不受照明角影響的信息。交疊輻射子束的重合邊緣部 分形成公共子束邊緣部分，該公共子束邊緣部分通常垂直于物的物移動(dòng)方面，該物在微光 刻投射過(guò)程中移動(dòng)。該類型的移動(dòng)發(fā)生在設(shè)計(jì)為掃描曝光機(jī)的投射曝光設(shè)備中。通過(guò)本發(fā) 明的照明光學(xué)部件，輻射子束在交疊平面中交疊。根據(jù)本發(fā)明，前面所稱的目的也通過(guò)用于微光刻的照明光學(xué)部件來(lái)實(shí)現(xiàn)，該照明 光學(xué)部件包括-光學(xué)組件，用于將照明光引導(dǎo)到物平面中要照明的物場(chǎng)；-其中，該照明光學(xué)部件包括具有多個(gè)場(chǎng)小平面的場(chǎng)多面鏡，該多個(gè)場(chǎng)小平面成像 到交疊平面中，從而場(chǎng)小平面的像的邊緣在交疊平面中至少部分地重合；
以及其中交疊平面與物平面分開且不成像到物平面中。其優(yōu)勢(shì)于上面已經(jīng)描述的那些一樣。借助場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的輻射子束的交疊提供場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的實(shí)際照明角無(wú)關(guān) 效應(yīng)，該強(qiáng)度設(shè)定裝置布置在交疊平面中并用于調(diào)整物場(chǎng)上照明光的強(qiáng)度分布，該交疊平 面用作強(qiáng)度設(shè)定平面，其中交疊輻射子束的邊緣在它們可受場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置影響的點(diǎn)處重 合。在該情況中，交疊平面用作強(qiáng)度設(shè)定平面。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置在照明光輻射束的交疊的 輻射子束的交疊點(diǎn)影響它們。因而，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置在這個(gè)點(diǎn)以相同的方式影響所有輻射 子束；換句話說(shuō)，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置具有與這些輻射子束無(wú)關(guān)并因而與分配給這些輻射子束 的照明角無(wú)關(guān)的效應(yīng)。至少在輻射強(qiáng)度設(shè)定裝置影響照明光輻射束的點(diǎn)處發(fā)生輻射子束的 交疊。例如，在近似矩形輻射子束的情況中，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置所影響的邊緣處的交疊就是足 夠的。自然而然，輻射子束或子束邊緣部分的交疊也可能在不受場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置影響的區(qū) 域中發(fā)生。交疊平面或強(qiáng)度設(shè)定平面中、為了減少或?qū)嶋H上避免場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的照明角 影響的輻射子束的交疊可在系統(tǒng)中應(yīng)用，在該系統(tǒng)中場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置能夠從兩側(cè)影響交疊 輻射子束。這些可以是具有中間像的照明光學(xué)部件或具有透射掩模的照明光學(xué)部件。場(chǎng)強(qiáng) 度設(shè)定設(shè)備定義物平面中的照明光的強(qiáng)度。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置影響范圍內(nèi)的點(diǎn)處的輻射子束 的交疊還允許增加要實(shí)現(xiàn)的物場(chǎng)照明的穩(wěn)定性，因?yàn)橛糜诋a(chǎn)生照明光的光源的移動(dòng)對(duì)場(chǎng)強(qiáng) 度設(shè)定裝置的效應(yīng)將僅有較小影響，甚至沒有。當(dāng)使用EUV等離子體源時(shí)這尤為有利。包括多個(gè)單獨(dú)的光闌或快門的場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置提供物場(chǎng)的物場(chǎng)高度(換句話說(shuō) 垂直于物移動(dòng)方向的物場(chǎng)大小)上的強(qiáng)度的靈敏調(diào)整，該多個(gè)光闌或快門一個(gè)接著另一個(gè) 布置并當(dāng)照明光對(duì)其曝光時(shí)至少衰減該照明光，且在平行于物移動(dòng)方向的方向上可插入到 照明光輻射束中。本發(fā)明的另一目的是開發(fā)前面提到的類型的照明光學(xué)部件，以此實(shí)現(xiàn)增加場(chǎng)強(qiáng)度 設(shè)定裝置的可能應(yīng)用的數(shù)量。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)用于微光刻的照明光學(xué)部件實(shí)現(xiàn)該目的，該照明光學(xué)部件包 括_光學(xué)部件，用于將照明光引導(dǎo)到物平面中要照明的物場(chǎng)；-場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置，用于利用多個(gè)單獨(dú)的光闌來(lái)調(diào)整物場(chǎng)上的強(qiáng)度分布，該多個(gè)單 獨(dú)的光闌一個(gè)接著另一個(gè)布置，并當(dāng)照明光對(duì)其曝光時(shí)至少衰減該照明光，且在平行于物 移動(dòng)方向的方向上可插入到照明光輻射束中；其中，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的所有單獨(dú)的光闌都從同一側(cè)可插入到照明光輻射束中。根據(jù)本發(fā)明，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如果場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的單獨(dú)的光闌全都從一側(cè)可插入到 照明光輻射束中，則場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置甚至也可應(yīng)用于物場(chǎng)布置在諸如反射掩模母版的反射 物上的情況。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置則可以以其不干擾照明光輻射束的反射光路徑的方式布置。強(qiáng)度設(shè)定平面中場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的布置可以再次確保場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的照明角 無(wú)關(guān)效應(yīng)，該強(qiáng)度設(shè)定平面與光學(xué)部件的場(chǎng)平面重合。光學(xué)部件的場(chǎng)平面描述了其中由于 該光學(xué)組件的束引導(dǎo)效應(yīng)而使得照明光輻射束受限的平面，以及如果照明光輻射束被分成 若干輻射子束則輻射子束交疊的平面。該光學(xué)組件的場(chǎng)平面通常是成像光學(xué)組件的物場(chǎng)形 成部件的平面。雖然如此，該光學(xué)組件的場(chǎng)平面一般與通過(guò)微光刻投射曝光設(shè)備的下游投 射光學(xué)部件成像的且通常稱為物平面的平面是位置無(wú)關(guān)的。在所有現(xiàn)有技術(shù)照明光學(xué)部件中，光學(xué)組件的場(chǎng)平面與物平面重合。在本發(fā)明的照明光學(xué)部件中并非如此。這里，在光學(xué) 組件的場(chǎng)平面中所布置的是場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置而不是要成像的通常為掩模母版的物?，F(xiàn)有技 術(shù)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置通常布置在掩模母版的上游，該掩模母版布置在光學(xué)組件的場(chǎng)平面中， 換句話說(shuō)現(xiàn)有技術(shù)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置沒有布置在該場(chǎng)平面中。因此，現(xiàn)有技術(shù)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝 置相比分配給其他照明角的輻射子束對(duì)分配給特定照明角的照明光輻射束的輻射子束具 有更大的影響；現(xiàn)有技術(shù)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置因此在物場(chǎng)上具有不期望的照明角相關(guān)效應(yīng)。發(fā) 明人發(fā)現(xiàn)到這個(gè)問(wèn)題并通過(guò)在光學(xué)組件的場(chǎng)平面中布置場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置來(lái)消除該問(wèn)題。令 人驚訝地，這允許物被移出光學(xué)組件的場(chǎng)平面而沒有任何問(wèn)題。如果包括照明光學(xué)部件的 投射曝光設(shè)備設(shè)計(jì)為掃描曝光機(jī)設(shè)備，則尤為如此。此外，如果物場(chǎng)的照明是利用小于或等 于0. 1的照明光輻射束的數(shù)值孔徑來(lái)進(jìn)行的，則尤為如此。其中物平面與強(qiáng)度設(shè)定平面相鄰從而強(qiáng)度設(shè)定平面和物平面之間沒有光學(xué)組件 的光瞳平面的布置特別緊湊。其中強(qiáng)度設(shè)定平面和物平面之間的距離在5mm與20mm之間的范圍中的布置避免 空間沖突或劑量誤差，換言之，進(jìn)入物場(chǎng)的照明強(qiáng)度中的不想要的像差。優(yōu)選距離在10mm 與20mm之間的范圍內(nèi)，尤為在15mm或16mm的范圍。其中光學(xué)組件包括具有多個(gè)場(chǎng)小平面的場(chǎng)多面鏡的布置允許容易控制物場(chǎng)照明 的照明角分布，該多個(gè)場(chǎng)小平面的像在物場(chǎng)中至少部分交疊。使場(chǎng)小平面具有比物場(chǎng)更大的x/y縱橫比(這意味著按比例而言，當(dāng)在物移動(dòng)方 向上觀察時(shí)場(chǎng)小平面比物場(chǎng)更窄)的場(chǎng)小平面的配置可以避免物場(chǎng)的過(guò)曝光，該過(guò)曝光是 場(chǎng)小平面圖像在物平面或掩模母版平面中的發(fā)散的結(jié)果，而該發(fā)散是由于物沒有布置在光 學(xué)組件的場(chǎng)平面(也稱作光闌平面)中，在該光學(xué)組件中部分場(chǎng)(換句話說(shuō)，照明光學(xué)部件 的光學(xué)組件的物場(chǎng)形成部件的像)以最小化對(duì)照明角分布的反饋的方式布置。其中面向單獨(dú)的光闌的照明光輻射束的邊緣由場(chǎng)多面鏡的全部小平面照明的布 置確保場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置對(duì)全部小平面像有相對(duì)均勻的影響，因此避免了場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的 使用期間對(duì)照明角分布有不想要的影響。只要在強(qiáng)度設(shè)定平面中產(chǎn)生了場(chǎng)小平面的銳利 像，則這就確保特定高的系統(tǒng)穩(wěn)定性，其中照明光的光源的空間移動(dòng)尤為幾乎不成問(wèn)題。當(dāng) 光源是EUV等離子體源時(shí)，這尤為有利。其中面向單獨(dú)的光闌的照明光輻射束的邊緣在場(chǎng)平面中由場(chǎng)多面鏡的全部場(chǎng)小 平面的子組照明的布置確保場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的照明角無(wú)關(guān)效應(yīng)，即使在面向單獨(dú)的光闌的 場(chǎng)平面中照明光輻射束的邊緣處的場(chǎng)小平面像的重合并非對(duì)于全部場(chǎng)小平面像是可實(shí)現(xiàn) 的。分配給子組的場(chǎng)小平面的照明角的給定分布改善了如下情況中場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置 的照明角無(wú)關(guān)性，在那些情況中，面向單獨(dú)的光闌的場(chǎng)平面中照明光輻射的邊緣處的理想 交疊根本都不能實(shí)現(xiàn)或僅以小的程度實(shí)現(xiàn)。照明角的確定的分布例如可以借助于統(tǒng)計(jì)函數(shù) 產(chǎn)生。這不僅確保強(qiáng)度設(shè)定裝置的照明角無(wú)關(guān)性也保證對(duì)照明角有確定的影響。具有多個(gè)光瞳小平面的光瞳多面鏡允許容易控制物場(chǎng)上的照明角分布，該多個(gè)光 瞳小平面分配給照明光的光路中的場(chǎng)小平面?？蓛A斜用于調(diào)整強(qiáng)度設(shè)定平面中照明光的交疊的多個(gè)光瞳小平面允許照明光輻 射束的單獨(dú)的輻射子束在強(qiáng)度設(shè)定平面中有選擇地移動(dòng)及取向，以便優(yōu)化場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的影響范圍內(nèi)的區(qū)域中的這些輻射子束的子位置。單獨(dú)的光闌至少在某些部分中至少是部分透明的，這增強(qiáng)了場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的強(qiáng) 度效應(yīng)對(duì)單獨(dú)的光闌的移動(dòng)的敏感性以及對(duì)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置相對(duì)于照明光輻射束的位置 變化的敏感性。當(dāng)利用照明光學(xué)部件將具有5nm與30nm之間的波長(zhǎng)的EUV照明光引導(dǎo)到物場(chǎng)時(shí)， 上述優(yōu)點(diǎn)甚至變得更明顯。根據(jù)本發(fā)明，前面所提到的目的也通過(guò)用于微光刻的照明光學(xué)部件來(lái)實(shí)現(xiàn)，該照 明光學(xué)部件包括-光學(xué)組件，用于將具有5nm與30nm之間的波長(zhǎng)的照明光引導(dǎo)到物平面中要照明 的物場(chǎng)；_場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置，用于調(diào)整物場(chǎng)上的照明光的強(qiáng)度分布；-其中場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置對(duì)橫截面有如下效應(yīng)，與場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置相對(duì)的束橫截面 的邊緣在場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的下游保持不變，該橫截面由照明光形成且垂直于照明光輻射 束；以及其中場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的效應(yīng)與物場(chǎng)上的照明角無(wú)關(guān)。其優(yōu)勢(shì)與上面已經(jīng)描述的那些相同。包括根據(jù)本發(fā)明的照明光學(xué)部件和光源的照明系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)、包括根據(jù)本發(fā)明的照 明系統(tǒng)和用于將物場(chǎng)成像到像平面的投射物鏡的投射曝光設(shè)備的優(yōu)勢(shì)、產(chǎn)生結(jié)構(gòu)化部件的 方法的優(yōu)勢(shì)以及以該方式產(chǎn)生的部件的優(yōu)勢(shì)與參照照明光學(xué)部件的上面描述的那些相同， 光源具體可以是具有5nm與30nm范圍內(nèi)的有用光的波長(zhǎng)的EUV光源。投射曝光設(shè)備用于 微結(jié)構(gòu)化部件或納米結(jié)構(gòu)化部件的光刻生產(chǎn)。產(chǎn)生結(jié)構(gòu)化部件的方法包括的步驟為-提供晶片，其至少部分施加有光敏感材料層；-提供掩模母版，其包括要成像的結(jié)構(gòu)；-提供根據(jù)本發(fā)明的投射曝光設(shè)備；以及_借助于該投射曝光設(shè)備，將掩模母版的至少部分投射到晶片上的層的區(qū)域。下文，將借助附圖更具體地解釋本發(fā)明的實(shí)施例。

圖1示出有關(guān)照明光學(xué)部件的、通過(guò)用于微光刻的投射曝光設(shè)備的子午截面示意 圖；圖2示出掩模母版平面附近的圖1的放大截面圖；圖3示出從圖2中的方向III的投射曝光設(shè)備的場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的視圖；圖4示出根據(jù)圖1的投射曝光設(shè)備的照明光學(xué)部件的場(chǎng)多面鏡的小平面布置的視 圖；圖5示出根據(jù)圖1的投射曝光設(shè)備的照明光學(xué)部件的光瞳多面鏡的小平面布置的 視圖；圖6示出類似于圖4的、場(chǎng)多面鏡的另一實(shí)施例的小平面布置的視圖；圖7示出對(duì)于三個(gè)選擇的輻射子束的、通過(guò)照明光學(xué)部件的光瞳平面和掩模母版 平面之間的照明光學(xué)部件的光路的示意圖，該三個(gè)選中的輻射子束在每個(gè)情況中分配給具 體的照明角；圖8示出根據(jù)圖4的場(chǎng)多面鏡的實(shí)施例的場(chǎng)小平面；
圖9示出根據(jù)圖4的場(chǎng)多面鏡的另一實(shí)施例的場(chǎng)小平面；圖10示出在替代照明設(shè)置，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的平面中的三個(gè)輻射子束的交疊，該 三個(gè)輻射子束分配給根據(jù)圖7圖示的不同的照明角；圖11至16示出第一照明幾何形狀下的作為通過(guò)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的減弱(單位為 百分比)的函數(shù)的掩模母版照明的照明參數(shù)的圖；以及圖17至22示出另一照明幾何形狀下的相同照明參數(shù)的圖，優(yōu)化該另一照明幾何 形狀以最小化由場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的減弱導(dǎo)致的這些照明參數(shù)的變化。用于微光刻的投射曝光設(shè)備1用于產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)電子半導(dǎo)體部件。光源 2發(fā)出例如在5nm與30nm之間的波長(zhǎng)范圍內(nèi)的EUV輻射。在投射曝光設(shè)備1中，有用輻射 束3用于照明和投射。光源2的下游，有用輻射束3最初經(jīng)過(guò)收集器4，該收集器4例如可 以是具有現(xiàn)有技術(shù)多殼結(jié)構(gòu)的巢狀(nested)收集器。在收集器4的下游，有用輻射的束3 最初經(jīng)過(guò)中間焦平面5，該中間焦平面5可以用于將不想要部分的輻射或粒子從有用輻射 束3中分離。流經(jīng)中間焦平面5后，有用輻射束3最初打到場(chǎng)多面鏡6。在每個(gè)情況中，附圖都包括xyz坐標(biāo)系，以便于說(shuō)明位置關(guān)系。圖1中，x軸垂直 于所述平面延展到所述平面。y軸在圖1中朝左延展。z軸在圖1中向上延展。圖4示出作為示例的場(chǎng)多面鏡6的場(chǎng)小平面7的小平面布置。場(chǎng)小平面7為矩形 且在每個(gè)情況中具有相同的x/y縱橫比。場(chǎng)小平面7定義場(chǎng)多面鏡6的反射面并布置在每 個(gè)情況中的6個(gè)場(chǎng)小平面組8的4列中。場(chǎng)小平面組8在每個(gè)情況中通常包括7個(gè)場(chǎng)小平 面7。靠近邊緣的兩個(gè)場(chǎng)小平面組8被包括在兩個(gè)中心場(chǎng)小平面列中，在每個(gè)情況中該兩個(gè) 場(chǎng)小平面組8包括四個(gè)附加的場(chǎng)小平面7并因而包括總共11個(gè)場(chǎng)小平面7。兩個(gè)中心小平 面列之間和第三和第四小平面行之間，場(chǎng)多面鏡6的小平面布置具有間隙9，在間隙9中場(chǎng) 多面鏡6被收集器4的支撐輻條遮擋。經(jīng)在場(chǎng)多面鏡6處反射后，分成分配給單獨(dú)的小平面7的輻射子束的有用輻射束 3打到光瞳多面鏡10。圖5示出作為示例的光瞳多面鏡10的圓形光瞳小平面11的小平面布置。光瞳小 平面11布置為小平面環(huán)，該小平面環(huán)一個(gè)布置在另一個(gè)的內(nèi)部以圍繞中心12。由場(chǎng)小平 面7之一反射的、有用輻射束3的每個(gè)輻射子束分配給光瞳小平面11，從而一對(duì)分別曝光的 小平面定義有用輻射3的經(jīng)分配的輻射束的一個(gè)輻射引導(dǎo)通道，該小平面對(duì)包括場(chǎng)小平面 7中的一個(gè)和光瞳小平面11中的一個(gè)。光瞳小平面11和場(chǎng)小平面7之間的通道分配取決 于借助投射曝光設(shè)備1的期望照明而發(fā)生。為了給出到具體光瞳小平面11的通道，場(chǎng)小平 面7單獨(dú)地一方面關(guān)于x軸且另一方面關(guān)于y軸傾斜。光瞳多面鏡10和包括3個(gè)EUV鏡12、13、14的下游透射光學(xué)部件15用于將場(chǎng)小 平面7成像到投射曝光設(shè)備1的場(chǎng)平面16中。EUV鏡14為掠入射鏡。當(dāng)在z方向上觀察 時(shí)，掩模母版平面17布置在場(chǎng)平面16的下游近似5mm到20mm的距離處，掩模母版平面17 中布置有掩模母版18，掩模母版18借助于有用輻射束3，照明與投射曝光設(shè)備1的下游投 射光學(xué)部件20的物場(chǎng)19相重合的照明區(qū)域。在投射曝光設(shè)備1中，場(chǎng)平面16不與掩模母 版平面17重合，借助于透射光學(xué)部件15，場(chǎng)小平面7成像到該場(chǎng)平面16中以形成小平面 像，該掩模母版平面17同時(shí)形成投射光學(xué)部件20的物平面。有用輻射束3由掩模母版18 反射。
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投射光學(xué)部件20將掩模母版平面17中的物場(chǎng)19成像到像平面22中的像場(chǎng)21。 在該像平面22中布置有載有光敏感層的晶片23，該光敏感層在投射曝光期間借助于投射 曝光設(shè)備1暴露于光。在投射曝光期間，掩模母版18以及晶片23兩者以同步方式在y方 向被掃描。投射曝光設(shè)備1是掃描曝光機(jī)。下文中，也將掃描方向稱作物移動(dòng)方向。場(chǎng)平面16中布置有場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24，下文中將更具體解釋該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置 24。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24用于定義掃描積分強(qiáng)度分布，換句話說(shuō)，物場(chǎng)19上在y方向上積分 的強(qiáng)度分布。因此，場(chǎng)平面16同時(shí)是照明光學(xué)部件26的強(qiáng)度設(shè)定平面。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置 24由控制裝置25驅(qū)動(dòng)。場(chǎng)多面鏡6、光瞳多面鏡10、透射光學(xué)部件15的鏡12至14以及場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置 24是投射曝光設(shè)備1的照明光學(xué)部件26的部件。部件6、10、12、13和14形成照明光學(xué)部 件26的光學(xué)組件26a以引導(dǎo)有用輻射束3。場(chǎng)平面16和掩模母版平面17之間不存在光學(xué)組件26a的光瞳平面。圖2和圖3示出場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24的更具體的圖示。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24具有多 個(gè)手指狀的一個(gè)接著另一個(gè)布置的單獨(dú)的光闌27。在依照?qǐng)D2和圖3的實(shí)施例中，總共有 26個(gè)單獨(dú)的光闌27，每個(gè)情況下具有4mm的寬度。這些單獨(dú)的光闌27或者一個(gè)緊接著另 一個(gè)布置或者彼此部分交疊布置。如果它們彼此部分交疊，單獨(dú)的光闌27的相鄰者需要在 盡可能靠近彼此的平面中垂直于照明光輻射束3的束方向布置。所有單獨(dú)的光闌27從同一側(cè)插入到有用輻射束3中?？刂蒲b置25允許單獨(dú)的光闌27沿y方向在給定位置彼此無(wú)關(guān)地放置。取決于經(jīng) 過(guò)物場(chǎng)19的掩模母版18上的物點(diǎn)的場(chǎng)高度(換句話說(shuō)，x方向)，y方向上該物點(diǎn)的掃描路 徑以及從而該物點(diǎn)所經(jīng)受的有用輻射的積分強(qiáng)度由各個(gè)單獨(dú)的光闌27的y位置確定。這 樣，掩模母版18所經(jīng)受的有用輻射的強(qiáng)度可以通過(guò)定義單獨(dú)的光闌27的y位置以給定方 式均勻化或分布。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24也稱作UNICOM。圖6示出場(chǎng)多面鏡6的另一實(shí)施例。等價(jià)于上面參照依據(jù)圖4的場(chǎng)多面鏡所解釋 的那些部件的部件具有相同的附圖標(biāo)記，并且僅若它們不同于依照?qǐng)D4的場(chǎng)多面鏡6的部 件才描述它們。依照?qǐng)D6的場(chǎng)多面鏡包括具有彎曲的場(chǎng)小平面7的場(chǎng)小平面布置。這些場(chǎng) 小平面7布置為總共5列，每一情況中具有多個(gè)場(chǎng)小平面組8。場(chǎng)小平面布置刻在場(chǎng)多面鏡 的載板9a的圓形邊界中。依照?qǐng)D6的實(shí)施例的場(chǎng)小平面7在每一情況中具有相同的表面面積和相同的寬(x 方向上)高(y方向上)比，其相應(yīng)于依照?qǐng)D4的場(chǎng)小平面7的x/y縱橫比。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24具有強(qiáng)度效應(yīng)，而該強(qiáng)度效應(yīng)實(shí)際上對(duì)物場(chǎng)19的照明角分布 無(wú)影響。下文，將借助圖7來(lái)解釋。該圖示意示出三個(gè)輻射子束28、29和30從光瞳平面31 經(jīng)過(guò)場(chǎng)平面16直到掩模母版平面17的路徑，光瞳平面31中布置有光瞳多面鏡10。為了說(shuō) 明的目的，平面31、16和17在圖7中被顯示為一個(gè)挨著另一個(gè)，而該平面31、16和17實(shí)際 上在三個(gè)輻射子束28、29和30的路徑中順序布置。下面是基于理想假設(shè)圖4的場(chǎng)多面鏡 6的場(chǎng)小平面7被成像到場(chǎng)平面16中從而完美重合。場(chǎng)平面16中的有用輻射束3的邊緣 邊界因此在x方向和y方向兩者上具有相同的延展，作為場(chǎng)小平面7中的一個(gè)的單個(gè)像。因 而，如果發(fā)生這樣的理想交疊，有用輻射束3具有正好等于場(chǎng)小平面7的x/y縱橫比的x/y縱橫比。分配給場(chǎng)平面16的不同照明方向并從而也包括輻射子束28至30的全部輻射子 束28在它們的整個(gè)橫截面上在場(chǎng)平面16中重合。具體地，面對(duì)單獨(dú)的光闌27的、有用輻 射束3的邊緣32由全部三個(gè)輻射子束28至30同時(shí)形成并照明。因而，覆蓋來(lái)自邊緣32 的有用輻射束3的單獨(dú)的光闌27對(duì)全部輻射子束28至30具有恰好相同(換句話說(shuō)，照明 角無(wú)關(guān))的強(qiáng)度效應(yīng)。對(duì)于輻射子束28至30，這通過(guò)在一側(cè)上有效的矩形陰影在圖7的右 手邊上的光瞳平面31中示意地示出。光瞳平面31中的這些陰影不構(gòu)建成真實(shí)的光闌。對(duì)于場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24，場(chǎng)小平面平面16中的場(chǎng)小平面像不需要在x方向(換句 話說(shuō)，垂直于掃描方向)上正好重合，以具有根據(jù)上面描述的照明角無(wú)關(guān)效應(yīng)；事實(shí)上，場(chǎng) 小平面像可能最好關(guān)于彼此以特定偏離布置。如果場(chǎng)小平面平面16中的場(chǎng)小平面像甚至 在x方向上也重合良好的話，則這可以用于通過(guò)解耦合有用輻射來(lái)進(jìn)行強(qiáng)度探測(cè)。在掩模母版平面17 (當(dāng)在z方向上觀察時(shí)，該掩模母版平面17在有用輻射束3的 光路中布置在場(chǎng)平面16后例如20mm處)中，三個(gè)輻射子束28至30尤其在y方向上略微 發(fā)散，從而，例如輻射子束28在y方向上略向上投射且在物場(chǎng)19的中心的輻射子束29范 圍外，而輻射子束30在輻射子束29范圍外在y方向上略向下投射。由于掩模母版在y方 向上由物場(chǎng)19掃描，掩模母版經(jīng)歷全部三個(gè)輻射子束28至30的掃描積分到它們的完整范 圍；因而，掩模母版平面17中各個(gè)輻射子束28至30之間的所提到的y偏離不具有任何負(fù) 效應(yīng)。由于輻射子束28至30的上面描述的y偏離，與場(chǎng)小平面7的給定x/y縱橫比相 比，物場(chǎng)19的x/y縱橫比較小。圖8示出依照?qǐng)D4的場(chǎng)多面鏡6的矩形場(chǎng)小平面7，該矩形場(chǎng)小平面7具有相應(yīng)于 場(chǎng)平面16中的給定x/y縱橫比的x/y縱橫比。如果給定x/y縱橫比不在場(chǎng)平面16而在掩 模母版平面17中產(chǎn)生，則需要使用場(chǎng)多面鏡6，該場(chǎng)多面鏡6包括其x/y縱橫比大于物場(chǎng) 19的縱橫比的場(chǎng)小平面33。因此，實(shí)際上需要使用場(chǎng)多面鏡6，該場(chǎng)多面鏡6的場(chǎng)小平面 33在y方向上較窄(比照?qǐng)D9)。場(chǎng)小平面的y延展y33因此小于場(chǎng)小平面7的y延展y7。實(shí)際上，由于多個(gè)成像效應(yīng)，分配到單個(gè)通道的、輻射子束在場(chǎng)平面16中的交疊 從圖7所示的理想交疊偏離。這可能具有各種各樣的原因。首先，由場(chǎng)多面鏡10的照明幾何形狀導(dǎo)致的場(chǎng)小平面7的相互遮蔽可以導(dǎo)致場(chǎng)平 面16中場(chǎng)小平面7的單獨(dú)形成的像。此外，取決于分別觀察的輻射束，透射光學(xué)部件15對(duì)于不同通道(換句話說(shuō)，對(duì)于 不同的輻射子束)具有不同的成像比例。相似地，這些不同成像比例也導(dǎo)致場(chǎng)平面16中輻 射束的交疊，該交疊偏離理想交疊。取決于場(chǎng)小平面7的各自傾斜，垂直于利用有用輻射束3的曝光方向獲得具有單 獨(dú)的小平面尺寸的小平面投射。這也對(duì)場(chǎng)平面16中的交疊有影響。場(chǎng)平面16中不完美的交疊的另一原因在于掠入射鏡14，要在場(chǎng)平面16中交疊的 輻射子束可能具有不同的曲率。假若場(chǎng)平面16中的交疊不理想，則照明光學(xué)部件26因此以如下方式調(diào)整成像各 自場(chǎng)小平面7的單個(gè)輻射子束以最佳可能方式在面對(duì)單獨(dú)的光闌27的邊緣32的區(qū)域中重 合。這在圖10中示意示出。相對(duì)邊緣33的邊緣33a處的輻射子束的不完美交疊是可接受 的，如由單個(gè)輻射子束的邊界34、35所指示，邊界34、35在y方向上彼此偏離。
最壞情況下，輻射子束的完美交疊至少在面對(duì)單獨(dú)的光闌27的邊緣32處甚至不 可實(shí)現(xiàn)。如果在邊緣32重合的輻射子束具有例如不同彎曲邊緣，則是如此。在該情況中， 照明光學(xué)部件需要通過(guò)尤其傾斜光瞳小平面11來(lái)調(diào)整，從而最小化場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24對(duì) 照明角的影響。這在下文中將借助圖11至22來(lái)解釋。圖11至16示出照明光學(xué)部件26產(chǎn)生輻 射子束的非優(yōu)化交疊情況下的物場(chǎng)19中的照明參數(shù)，而圖17至22示出在輻射子束的相應(yīng) 優(yōu)化交疊的情況下的相同照明參數(shù)。下面討論的光學(xué)照明參數(shù)為遠(yuǎn)心度值tx、ty，其為隨著無(wú)效的場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置 (Irel = 1)的初始值變化，以及橢圓度值的相應(yīng)變化A E和發(fā)生在物場(chǎng)19上的其最大值 max (At)、max ( A E)。tx和ty定義如下照明物場(chǎng)19的每個(gè)場(chǎng)點(diǎn)中定義了分配給該場(chǎng)點(diǎn)的光束的中心光束。中心光束具 有由該場(chǎng)點(diǎn)發(fā)射的光束的能量權(quán)重方向。在理想情況中，每個(gè)場(chǎng)點(diǎn)的中心光束平行于照明 光學(xué)部件26或投射光學(xué)部件20所定義的主光束。由于照明光學(xué)部件26或投射光學(xué)部件20的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)而知曉中心光束的方向
。場(chǎng)點(diǎn)處的主光束由場(chǎng)點(diǎn)和投射光學(xué)部件20的入瞳中心之間的連接線定義。物場(chǎng) 19中場(chǎng)點(diǎn)x、y處的中心光束的方向如下獲得 E(u, v, x, y)是作為光瞳坐標(biāo)u、v的函數(shù)的、場(chǎng)點(diǎn)x、y的能量分布，換句話說(shuō)，作 為通過(guò)各自場(chǎng)點(diǎn)x、y看到的照明角的函數(shù)。E(x,y) = jdudvE(u, v, x, J)是曝光點(diǎn) x、y 的總能量。例如，中心物場(chǎng)點(diǎn)x0、y0經(jīng)歷來(lái)自方向u、v的部分輻射子束的輻射，方向u、v由各 自的光瞳小平面11的位置定義。在該照明設(shè)置下，只有當(dāng)分配給光瞳小平面11的、部分輻 射子束的不同能量或強(qiáng)度結(jié)合以形成中心光束方向，該中心光束方向在所有光瞳小平面11 上積分且平行于主光束方向，中心光束s才沿主光束延展。這僅在理想情形下能夠?qū)崿F(xiàn)。 事實(shí)上，中心光束方向？(X, y)和主光束方向 a(x，y)之間存在偏離，該偏離稱作遠(yuǎn)心誤差 t(x,y) 在投射曝光設(shè)備1的實(shí)際使用中，并不是特定物場(chǎng)處的靜態(tài)遠(yuǎn)心誤差必須校正， 而是X = Xo處的掃描積分遠(yuǎn)心誤差必須校正。該遠(yuǎn)心誤差如下獲得 結(jié)果，遠(yuǎn)心誤差被校正，該遠(yuǎn)心誤差通過(guò)掩模母版18上的點(diǎn)(X，例如X(l)在掃描過(guò) 程期間移動(dòng)通過(guò)掩模母版平面17上的物點(diǎn)來(lái)積分，其中在x遠(yuǎn)心誤差(Tx)和y遠(yuǎn)心誤差 (Ty)之間作出差別。y遠(yuǎn)心誤差定義為垂直于掃描方向的、中心光束從主光束的偏離。x遠(yuǎn) 心誤差定義為掃描方向上的、中心光束從主光束的偏離。
橢圓度是用于確定掩模母版平面17中物場(chǎng)19的照明質(zhì)量的另一參數(shù)。橢圓度的 確定有助于分別獲得有關(guān)投射光學(xué)部件20的入瞳上能量或強(qiáng)度分布的更精確地信息。為 此，將入瞳分成8個(gè)八分圓，其從至08以逆時(shí)針方向編號(hào)，因?yàn)檫@是數(shù)學(xué)上的習(xí)慣作法。 照明場(chǎng)點(diǎn)的入瞳的八分圓Oi至08所提供的能量或強(qiáng)度貢獻(xiàn)下文分別稱作能量或強(qiáng)度貢獻(xiàn) “至‘ E- = 7；+/3+/6+/7同樣，特定物場(chǎng)點(diǎn)xQ、y0的或甚至掃描積分照明(x = x0, y-積分)的橢圓度也可 以根據(jù)有關(guān)遠(yuǎn)心誤差的上面的描述來(lái)確定。圖11示出對(duì)于5個(gè)不同場(chǎng)高的、x遠(yuǎn)心從初始 值的偏離作為強(qiáng)度量的函數(shù)，該強(qiáng)度量被允許經(jīng)過(guò)所分配的單獨(dú)的光闌27。衰減15%時(shí)， 換句話說(shuō)透過(guò)率為0. 85時(shí)，尤其在場(chǎng)邊緣有近似+/-0. 75mrad的遠(yuǎn)心偏離A tx(比照?qǐng)D 11)和近似-2. 4mrad的遠(yuǎn)心偏離A ty(比照?qǐng)D14)。根據(jù)場(chǎng)高，0. 85透過(guò)率處橢圓度變化 AE90相比無(wú)衰減值(比照?qǐng)D12)在2. 5%和-1%之間變化。透過(guò)率為0. 85時(shí)，值A(chǔ)E45分別達(dá)到或近似4. 5%的最大值(比照?qǐng)D15)。最大遠(yuǎn)心變化達(dá)到2. 5%的值(比照?qǐng)D13)。最大橢圓度變化max ( A E)達(dá)到4. 5%的范圍內(nèi)的值。圖17至22清晰示出場(chǎng)平面16中邊緣32的區(qū)域內(nèi)優(yōu)化交疊對(duì)輻射子束的影響。 0. 5的最大遠(yuǎn)心變化在任何場(chǎng)高都不被超過(guò)(比照?qǐng)D19)。同樣，2%的最大橢圓度變化在 任何場(chǎng)高也都不被超過(guò)(比照?qǐng)D22)。這些最大變化適用于達(dá)到0. 85的透過(guò)率的衰減。如 果衰減達(dá)到0. 9的透過(guò)率，則遠(yuǎn)心變化不超過(guò)0. 4mard的值而橢圓度變化不超過(guò)的值。在場(chǎng)平面16中對(duì)輻射子束進(jìn)行重合的替代實(shí)施例中，面對(duì)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置24的 單獨(dú)的光闌27的邊緣32沒有被所有場(chǎng)小平面照明而是被場(chǎng)小平面7的子組照明。以如下 方式選擇該場(chǎng)小平面7的子組子組的場(chǎng)小平面7表示全部照明角，該全部照明角在給定照 明處借助照明光學(xué)部件26以優(yōu)選相等分布方式實(shí)現(xiàn)。每一情況中，小平面7的子組例如可 以由來(lái)自場(chǎng)小平面組8的一個(gè)場(chǎng)小平面7形成。每一情況中，該子組包括中心場(chǎng)多面鏡6 或各個(gè)場(chǎng)小平面組8的兩個(gè)中心場(chǎng)多面鏡6中的一個(gè)。作為示例，在根據(jù)圖6的場(chǎng)多面鏡6 中用作選中的場(chǎng)小平面8a的場(chǎng)小平面7借助陰影線來(lái)表示。對(duì)于該子組所選擇的各個(gè)場(chǎng) 小平面例如可以在y方向上比場(chǎng)小平面組8的其余場(chǎng)小平面7略寬。例如，子組場(chǎng)小平面 可以是根據(jù)圖8的場(chǎng)小平面7，以及場(chǎng)小平面組8的其他場(chǎng)小平面7可以是根據(jù)圖9的場(chǎng)小 平面7。該子組選擇也可以通過(guò)作為通道的輻射子束的單個(gè)引導(dǎo)來(lái)實(shí)現(xiàn)，該通道由場(chǎng)小平 面組的場(chǎng)小平面7形成；為此，光瞳小平面11相應(yīng)傾斜。有用輻射束3內(nèi)的邊緣32和邊界 36之間的區(qū)域僅由場(chǎng)小平面組的場(chǎng)小平面7照明(比照?qǐng)D10)。從邊緣32觀察，所有其他 通道的輻射子束布置在邊界36外。以這樣的方式選擇子組的場(chǎng)小平面7，以確保其輻射子 束在靠近邊緣32的場(chǎng)平面16中以最佳可能方式重合。單獨(dú)的光闌27僅對(duì)與子組的這些 場(chǎng)小平面7相關(guān)聯(lián)的輻射子束的強(qiáng)度有影響。由于與子組的這些場(chǎng)小平面7相關(guān)聯(lián)的通道
12在光通多面鏡10上均等分布，在場(chǎng)平面16中重合輻射子束的該替代實(shí)施例也保證場(chǎng)強(qiáng)度 設(shè)定裝置24的照明角無(wú)關(guān)效應(yīng)。單獨(dú)的光闌27可以至少在某些部分中是半滲透和/或透明的，因此允許選擇性設(shè) 置。相鄰單獨(dú)的光闌27在x方向上可以部分地彼此交疊。尤其在該情況中，有利的是，單 獨(dú)的光闌27在它們范圍上具有可變的透過(guò)率。例如在WO 2005/040927A2中描述了可用于單獨(dú)的光闌27的透過(guò)率分布。取代手指光闌，在平面中起作用的場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置的其他實(shí)施例也是可適用的。 其示例在EP 1291721A1中描述。單獨(dú)的光闌27可以具有結(jié)構(gòu)化的端側(cè)，如例如在US 2006/0244941A1中，尤其在 圖10至12中所解釋的。
權(quán)利要求
用于微光刻的照明光學(xué)部件(26)，包括 光學(xué)組件(26a)，用于將照明光引導(dǎo)到物平面(17)中要照明的物場(chǎng)(19)； 其中該照明光學(xué)部件(26)將照明光輻射束(3)分成多個(gè)輻射子束(28至30)，該多個(gè)輻射子束(28至30)分配給物場(chǎng)照明的不同照明角；其中，配置該照明光學(xué)部件(26)以使輻射子束(28至30)中的至少一些在交疊平面(16)中交疊，該交疊平面(16)與物平面(17)分開且不被成像到其中發(fā)生交疊的物平面(17)，從而交疊的輻射子束(28至30)的邊緣(32)至少部分地重合。
2.用于微光刻的照明光學(xué)部件(26)，包括-光學(xué)組件(26a)，用于將照明光引導(dǎo)到物平面(17)中要照明的物場(chǎng)(19)； -其中，該照明光學(xué)部件(26)包括具有多個(gè)場(chǎng)小平面(7)的場(chǎng)多面鏡(6)，該多個(gè)場(chǎng)小 平面(7)成像到交疊平面(16)中，從而場(chǎng)小平面(7)的像的邊緣(32)在交疊平面(16)中 至少部分地重合；以及其中該交疊平面(16)與物平面(17)分開且不成像到物平面(17)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的照明光學(xué)部件，其特征在于場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)，該場(chǎng)強(qiáng) 度設(shè)定裝置(24)布置在交疊平面(16)中，該交疊平面(16)則用作強(qiáng)度設(shè)定平面，其中，該 場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)用作調(diào)整該物場(chǎng)(19)上照明光的強(qiáng)度分布，其中，該交疊輻射子束 (28至30)的邊緣(32)在它們受該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)影響的點(diǎn)處重合。
4.如權(quán)利要求3所述的照明光學(xué)部件(26)，其特征在于，該強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)包括多 個(gè)單獨(dú)的光闌(27)，該多個(gè)光闌(27) —個(gè)接著另一個(gè)布置，并當(dāng)照明光對(duì)其曝光時(shí)至少衰 減該照明光且在平行于物移動(dòng)方向(y)的方向上可插入到照明光輻射束(3)中。
5.用于微光刻的照明光學(xué)部件(26)，包括-光學(xué)組件(26a)，用于將照明光引導(dǎo)到物平面(17)中要照明的物場(chǎng)(19)； -場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)，用于利用多個(gè)單獨(dú)的光闌(27)調(diào)整物場(chǎng)(19)上的強(qiáng)度分布， 該多個(gè)單獨(dú)的光闌(27) —個(gè)接著另一個(gè)布置并當(dāng)照明光對(duì)其曝光時(shí)至少衰減該照明光， 且在平行于物移動(dòng)方向(y)的方向上可插入到照明光輻射束(3)中；其中，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)的所有單獨(dú)的光闌(27)都從同一側(cè)可插入到該照明光輻 射束中。
6.如權(quán)利要求3至5之一所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24) 布置在強(qiáng)度設(shè)定平面(16)中，該強(qiáng)度設(shè)定平面(16)與該光學(xué)組件(26a)的場(chǎng)平面重合。
7.如權(quán)利要求6所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該物平面(17)與該強(qiáng)度設(shè)定平面(16)相鄰，從而該強(qiáng)度設(shè)定平面(16)和物平面(17)之間不存在該光學(xué)組件(26a)的光瞳平面。
8.如權(quán)利要求7所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該強(qiáng)度設(shè)定平面(16)和該物平面(17)之間的距離在5mm與20mm之間的范圍內(nèi)。
9.如權(quán)利要求1至8之一所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該光學(xué)組件(26a)包括具 有多個(gè)場(chǎng)小平面(7)的場(chǎng)多面鏡(6)，該多個(gè)場(chǎng)小平面(7)的像在該物場(chǎng)(19)中至少部分交疊。
10.如權(quán)利要求9所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該場(chǎng)小平面(7)具有比該物場(chǎng) (19)更大的縱橫比(x/y)，這意味著按比例而言，當(dāng)在物移動(dòng)方向(y)上觀察時(shí)它們比該物場(chǎng)(19)更窄。
11.如權(quán)利要求9或10所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，面向該單獨(dú)的光闌(27)的 照明光輻射束(3)的邊緣(32)在該場(chǎng)平面(16)中由該場(chǎng)多面鏡(6)的全部小平面(7)照明。
12.如權(quán)利要求9或10所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，面向單獨(dú)的光闌(27)的照 明光輻射束(3)的邊緣(32)在該場(chǎng)平面(16)中由該場(chǎng)多面鏡(6)的全部場(chǎng)小平面(7)的 子組照明。
13.如權(quán)利要求12所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，將照明角的給定分布分配給該 子組的場(chǎng)小平面(7)。
14.如權(quán)利要求9至13之一所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該光學(xué)組件(26a)包括 具有多個(gè)光瞳小平面(11)的光瞳多面鏡(10)，該多個(gè)光瞳小平面(11)分配給該照明光光 路中的場(chǎng)小平面(7)。
15.如權(quán)利要求14所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該光瞳小平面(11)可傾斜，用于 調(diào)整該強(qiáng)度設(shè)定平面(16)中的照明光的交疊。
16.如權(quán)利要求4至15之一所述的照明光學(xué)部件，其特征在于，該單獨(dú)的光闌(27)至 少某些部分上至少部分透明。
17.如權(quán)利要求1至16之一所述的照明光學(xué)部件，用于將具有5nm與30nm之間的波長(zhǎng) 的照明光引導(dǎo)到該物場(chǎng)(19)。
18.用于微光刻的照明光學(xué)部件(26)，包括-光學(xué)組件(26a)，用于將具有5nm與30nm之間的波長(zhǎng)的照明光引導(dǎo)到物平面(17)中 要照明的物場(chǎng)(19)；-場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)，用于調(diào)整該物場(chǎng)(19)上的照明光的強(qiáng)度分布；-其中該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)對(duì)橫截面有如下效應(yīng)相對(duì)場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)的、束 橫截面的邊緣(33a)在該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)的下游保持不變，該橫截面由垂直于照明光 輻射束(3)的照明光形成；以及其中該場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)的效應(yīng)與該物場(chǎng)(19)上的照明角無(wú)關(guān)。
19.包括如權(quán)利要求1至18之一所述的照明光學(xué)部件和光源(2)的照明系統(tǒng)。
20.如權(quán)利要求19所述的照明光學(xué)部件，其特征在于該光源(2)是EUV光源。
21.投射曝光設(shè)備(1)，包括:-如權(quán)利要求19或20所述的照明系統(tǒng)，-投射物鏡(20)，用于將該物場(chǎng)(19)成像到像平面(21)。
22.產(chǎn)生結(jié)構(gòu)化部件的方法，包括的步驟為-提供晶片(23)，其至少部分施加有光敏感材料層；_提供掩模母版(18)，其包括要成像的結(jié)構(gòu)；-提供如權(quán)利要求21所述的投射曝光設(shè)備(1)；-借助于該投射曝光設(shè)備(1)，將該掩模母版(18)的至少部分投射到該晶片(23)上的 層的區(qū)域上。
23.依照權(quán)利要求22的方法產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)化部件。
全文摘要
一種用于微光刻的照明光學(xué)部件，該照明光學(xué)部件包括用于將照明光引導(dǎo)到物平面中要照明的物場(chǎng)的光學(xué)組件。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，照明光學(xué)部件(26)將照明光輻射束(3)分成多個(gè)輻射子束(28至30)，該多個(gè)輻射子束被分配物場(chǎng)照明的不同照明角。照明光學(xué)部件(26)被配置以使輻射子束(28至30)中的至少一些在交疊平面中交疊，該交疊平面與物平面分開且不被成像到其中發(fā)生交疊的物平面。該交疊使得交疊輻射子束(28至30)的邊緣(32)至少部分地重合。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)包括多個(gè)相鄰的單獨(dú)的光闌(27)，當(dāng)對(duì)那里曝光時(shí)，該多個(gè)相鄰的單獨(dú)的光闌至少減弱照明光(3)。這些單獨(dú)的光闌(27)在平行于物移動(dòng)方向(y)的方向上可插入到照明光輻射束(3)中。場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)定裝置(24)的所有單獨(dú)的光闌(27)可從同一側(cè)插入到照明光輻射束(3)中。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101896869SQ200880120429
公開日2010年11月24日 申請(qǐng)日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月11日
發(fā)明者拉爾夫·施圖茨爾, 詹斯·奧斯曼, 馬丁·恩德雷斯 申請(qǐng)人:卡爾蔡司Smt股份公司